[发明专利]光照射装置、光照射方法和液晶面板的制造方法

权利要求书

1.一种光照射装置，

隔着掩模对基板照射光，

具备：

吸附管，其保持上述掩模；以及

载置台，其载置上述基板，

上述吸附管相对于上述掩模的平面二维地排列，

在上述载置台上配置有测定上述基板和掩模之间的距离的光学式变位计，

上述光学式变位计配置于测定上述掩模的中央区域中的至少2点的位置。

2.根据权利要求1所述的光照射装置，

上述基板包含图像显示装置用的透光性基板，

上述掩模具有一边为1米以上的尺寸。

3.根据权利要求1或2所述的光照射装置，

上述吸附管在竖直方向上延伸，

上述吸附管的前端对上述掩模进行真空抽吸，由此，上述掩模被上述吸附管保持，

上述吸附管的前端配置为矩阵状。

4.根据权利要求3所述的光照射装置，

进一步设置有保持上述掩模的周缘部的掩模周缘保持部。

5.根据权利要求4所述的光照射装置，

上述光学式变位计配置于测定上述掩模的中央区域中的5点的位置。

6.根据权利要求4所述的光照射装置，

上述光学式变位计配置于测定上述掩模的中央区域中的9点的位置。

7.根据权利要求1至6中的任一项所述的光照射装置，其特征在于，

上述载置台连接于在上下方向上移动上述载置台的升降装置，

上述光学式变位计连接于控制上述升降装置的控制装置，

上述控制装置基于通过上述光学式变位计测定的距离中的最小距离来算出上述基板和上述掩模之间的间隔，以成为上述间隔的方式使上述升降装置移动。

8.根据权利要求1至7中的任一项所述的光照射装置，

进一步在上述掩模的上方设置有照射紫外线的光源。

9.一种光照射方法，

隔着掩模对基板照射光，

包含：

工序(a)，将掩模配置于上述基板的上方；

工序(b)，移动上述基板来使上述基板和上述掩模接近；以及

工序(c)，隔着上述掩模对上述基板照射光，

在上述工序(a)中，

上述掩模被相对于上述掩模的平面二维地排列的吸附管保持，

上述基板载置于载置台上，

在上述载置台上配置有测定上述基板和掩模之间的距离的光学式变位计，

上述光学式变位计配置于测定上述掩模的中央区域中的至少2点的位置，

在上述工序(b)中，

执行：基于通过上述光学式变位计测定的距离中的最小距离，使上述基板和上述掩模接近。

10.根据权利要求9所述的光照射方法，

上述光学式变位计配置于测定上述掩模的中央区域中的5点的位置，

在上述工序(b)中，

执行：基于上述5点的测定距离中的最小距离，使上述基板和上述掩模接近。

11.根据权利要求9所述的光照射方法，

上述光学式变位计配置于测定上述掩模的中央区域中的9点的位置，

在上述工序(b)中，

执行：基于上述9点的测定距离中的最小距离，使上述基板和上述掩模接近。

12.根据权利要求9所述的光照射方法，

上述基板包含图像显示装置用的透光性基板，

上述掩模具有一边为1米以上的尺寸。

13.根据权利要求9至12中的任一项所述的光照射方法，其特征在于，

在上述工序(c)中，使形成于上述基板的光固化树脂固化。

14.根据权利要求9至12中的任一项所述的光照射方法，其特征在于，

在上述工序(c)中，对形成于上述基板的感光体层进行曝光，由此形成图案。