[发明专利]基于微阵列的空间滤波器有效
申请号: | 201080062458.X | 申请日: | 2010-10-12 |
公开(公告)号: | CN102859368A | 公开(公告)日: | 2013-01-02 |
发明(设计)人: | M·德冈;N·达马斯科歇;M·谢弗佩;I·梅恩 | 申请(专利权)人: | 微-埃普西龙光电股份有限公司 |
主分类号: | G01P3/36 | 分类号: | G01P3/36 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 亓云 |
地址: | 德国德累斯顿*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 基于 阵列 空间 滤波器 | ||
1.一种空间滤波测量装置(1),包括至少一个传感器(4,5;41I–41IV;51)和空间滤波器;从测量对象(13)射出或反射的电磁辐射特别是光通过所述空间滤波器在传感器(4,5;41I–41IV;51,52)上成像,其特征在于,所述空间滤波器是包括可移动镜元件(21–21″′)的镜阵列形式尤其是微镜阵列。
2.如权利要求1所述的空间滤波测量装置(1),其特征在于,包括控制器(10),用于控制所述镜元件(21–21″′)的移动;和/或包括分析装置,用于分析所述至少一个光学传感器(4,5;41I–41IV;51,52)发出的信号。
3.如权利要求1或2所述的空间滤波测量装置(1),其特征在于,所述至少一个传感器(4,5;41I–41IV;51,52)是光敏二极管、光敏晶体管、分光敏二极管、光敏二极管线或光敏晶体管线、光敏二极管矩阵或光敏晶体管矩阵,CCD阵列,或CMOS阵列。
4.如权利要求1至3任一项所述的空间滤波测量装置(1),其特征在于,包括位于电磁辐射的光路(7)中的至少一个光学元件(6;42I-42IV),特别是光学透镜、透镜装置和/或准直器。
5.如权利要求1至4任一项所述的空间滤波测量装置(1),其特征在于,包括多个传感器(4,5;41I-41IV;51,52),或包含多个段(51I-51IV;52I-52IV)的至少一个传感器(51,52);其中每个传感器(4,5;41I-41IV;51,52)或传感器的每段(51I-51IV;52I-52IV)在视场内只有镜阵列(3,35)的一个部分(I-IV;35I-35IV),尤其当采用前置光学元件(42I-42IV)时。
6.如权利要求1至5任一项所述的空间滤波测量装置(1),其特征在于,所述镜阵列(3,35)的所述镜元件(21-21″)可分别沿至少二个不同方向在至少二个固定角位置之间移动。
7.如权利要求1至5任一项所述的空间滤波测量装置(1),其特征在于,所述镜阵列(3)的所述镜元件(21–21″)可分别沿至少二个不同方向在它们相应的角位置上连续地或准连续地移动。
8.如权利要求1至7任一项所述的空间滤波测量装置(1),其特征在于,包括可被所述镜阵列(3;35)的所述镜元件(21–21″)控制的至少二个传感器(4,5;41I–41IV;51,52);其中当通过选定或指定所述镜阵列(3;35)的所述镜元件(21–21″)的角位置(53I–53IV)构建一光栅结构(30–35)时,一个传感器(4;41I–41II;51)接收位于第一角位置的第一组(25)镜元件(21–21″)发出的电磁辐射;另一个传感器(5;41III–41IV;52)接收位于第二角位置的第二组(26)镜元件(21–21″)发出的电磁辐射;其中,所述第一组(25)和第二组(26)镜元件(21–21″)选自镜阵列(3)的至少一个部分(I–IV),并且相对于所述至少二个传感器(4,5;41I–41IV;51,52)彼此形成光栅结构(30–35)的正面和负面。
9.一种空间滤波测量设备(2),包括如权利要求1至8任一项所述的空间滤波测量装置(1)。
10.镜阵列(3)尤其微镜阵列作为空间滤波测量装置(1)的空间滤波器的用途。
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