[发明专利]高性能碳纳米管储能器件无效

专利信息
申请号: 201080063796.5 申请日: 2010-12-20
公开(公告)号: CN102893351A 公开(公告)日: 2013-01-23
发明(设计)人: 坎特恩·范·源;达雷尔·李·涅曼 申请(专利权)人: 优特拉有限公司
主分类号: H01G9/042 分类号: H01G9/042;C01B31/02
代理公司: 北京市磐华律师事务所 11336 代理人: 徐丁峰;魏宁
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 性能 纳米 管储能 器件
【权利要求书】:

1.一种用于形成储能器件的一部分的方法,所述方法包括:

获取金属衬底;

直接在金属衬底上形成多个碳纳米管(CNT);

从所述多个CNT去除无定形碳;以及

将所述多个CNT耦合至电解质隔离部。

2.根据权利要求1所述的方法,其中,所述金属衬底包括金属催化剂。

3.根据权利要求1所述的方法,其中,所述金属衬底覆盖有金属催化剂。

4.根据权利要求1所述的方法,其中,所述多个CNT直接生长在所述金属衬底上而不添加催化剂层。

5.根据权利要求1所述的方法,其中,所述无定形碳经由涉及水的工艺而去除。

6.根据权利要求1所述的方法,其中,所述多个CNT基本上垂直对准。

7.根据权利要求1所述的方法,其中,所述多个CNT经由化学气相沉积(CVD)而形成。

8.一种形成电容器的方法,所述方法包括:

在第一金属衬底上形成第一多个碳纳米管(CNT);

从所述第一多个碳纳米管(CNT)去除无定形碳;

在第二金属衬底上形成第二多个碳纳米管(CNT);

从所述第二多个CNT去除无定形碳;以及

将所述第一多个CNT和所述第二多个CNT耦合至膜。

9.根据权利要求8所述的方法,其中,所述第一金属衬底和所述第二金属衬底包括金属催化剂。

10.根据权利要求8所述的方法,其中,所述第一金属衬底和所述第二金属衬底覆盖有金属催化剂。

11.根据权利要求8所述的方法,其中,所述第一多个CNT生长在所述第一金属衬底上而不添加催化剂层。

12.根据权利要求8所述的方法,其中,所述第一多个CNT基本上垂直对准。

13.根据权利要求8所述的方法,其中,所述膜为电解质隔离部。

14.一种储能器件,包括:

第一金属衬底和第二金属衬底;

电解质隔离部;

多个碳纳米管(CNT),所述多个CNT耦合至所述第一金属衬底、所述第二金属衬底和所述电解质隔离部,其中,所述多个CNT的第一部分直接生长在所述第一金属衬底上且所述多个CNT的第二部分直接生长在所述第二金属衬底上,并且无定形碳已从所述多个CNT去除。

15.根据权利要求14所述的储能器件,其中,所述第一金属衬底包括金属催化剂。

16.根据权利要求14所述的储能器件,其中,所述多个CNT的所述第一部分形成第一电极且所述多个CNT的所述第二部分形成第二电极,其中所述第一电极和所述第二电极大于1×1cm2

17.根据权利要求14所述的储能器件,其中,所述多个CNT直接生长在所述金属衬底上而不添加催化剂层。

19.根据权利要求14所述的储能器件,其中,所述储能器件为电容器且所述电容器可操作以在0.05V以上工作。

20.根据权利要求14所述的储能器件,其中,所述多个CNT在连续的工艺中形成。

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