[发明专利]用于将流体喷射到基底上的设备和方法有效
申请号: | 201080063979.7 | 申请日: | 2010-12-20 |
公开(公告)号: | CN102753347A | 公开(公告)日: | 2012-10-24 |
发明(设计)人: | 克里斯托弗·K·比格勒;豪尔赫·A·费雷罗;迈克尔·R·戈尔曼;维克托·F·潘扎;奥马尔·A·帕罗蒂;加布里埃拉·F·塞拉;威廉·C·昂鲁 | 申请(专利权)人: | 3M创新有限公司 |
主分类号: | B32B37/00 | 分类号: | B32B37/00;B32B37/04;B32B5/24;C09J5/00 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人: | 梁晓广;关兆辉 |
地址: | 美国明*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 流体 喷射 基底 设备 方法 | ||
1.一种用于将流体至少喷射到第一移动基底的第一表面和第二移动基底的第一表面上以及局部地移除所喷射流体的设备,包括:
至少一个第一流体递送出口;
至少一个第一流体捕集入口,所述至少一个第一流体捕集入口相对于所述第一流体递送出口局部地设置;
至少一个第二流体递送出口;
至少一个第二流体捕集入口,所述至少一个第二流体捕集入口相对于所述第二流体递送出口局部地设置;
并且其中所述至少一个第一流体递送出口和所述至少一个第二流体递送出口呈发散关系。
2.根据权利要求1所述的设备,还包括:至少一个第一流体递送通道,所述至少一个第一流体递送通道流体连接至所述至少一个第一流体递送出口;至少一个第二流体递送通道,所述至少一个第二流体递送通道流体连接至所述至少一个第二流体递送出口;至少一个第一流体移除通道,所述至少一个第一流体移除通道流体连接至所述至少一个第一流体捕集入口;和至少一个第二流体移除通道,所述至少一个第二流体移除通道流体连接至所述至少一个第二流体递送出口。
3.根据权利要求2所述的设备,其中所述第一流体递送通道和所述第二流体递送通道包括共用流体递送腔室的第一部分和第二部分。
4.根据权利要求1所述的设备,其中所述第一流体递送出口具有周向细长的弧形形状,并且其中所述第一流体捕集入口具有与所述第一流体捕集入口一致的周向细长的弧形形状;并且,
其中所述第二流体递送出口具有周向细长的弧形形状,并且其中所述第二流体捕集入口具有与所述第二流体捕集入口一致的周向细长的弧形形状。
5.根据权利要求4所述的设备,其中所述第一流体递送出口以横向外侧的方式侧面连接有一对第一流体捕集入口,并且其中所述第二流体递送出口以横向外侧的方式侧面连接有一对第二流体捕集入口。
6.根据权利要求5所述的设备,其中所述第一流体捕集入口均与所述第一流体递送出口一致,并且其中所述第二流体捕集入口均与所述第二流体递送出口一致。
7.根据权利要求4所述的设备,其中所述第一流体递送出口的周向端部和所述第二流体递送出口的周向端部被设置为彼此邻近,以便形成凸出的凸角。
8.根据权利要求4所述的设备,其中所述设备包括横向间隔的一对第一流体递送出口,其中一对第一流体捕集入口以横向外侧的方式侧面连接所述一对第一流体递送出口,并且附加的第一流体捕集入口被横向夹置在所述一对第一流体递送出口之间;并且
其中所述设备还包括横向间隔的一对第二流体递送出口,其中一对第二流体捕集入口以横向外侧的方式侧面连接所述一对第二流体递送出口,并且附加的第二流体捕集入口被横向夹置在所述一对第二流体递送出口之间。
9.根据权利要求4所述的设备,其中所述设备包括至少三个横向间隔的第一流体递送出口,其中第一流体捕集入口被横向夹置在每两个第一流体递送出口之间,并且一组第一流体捕集入口以横向外侧的方式侧面连接横向最外侧的第一流体递送出口;并且,
其中所述设备还包括至少三个横向间隔的第二流体递送出口,其中第二流体捕集入口被横向夹置在每两个第二流体递送出口之间,并且一组第二流体捕集入口以横向外侧的方式侧面连接横向最外侧的第二流体递送出口。
10.根据权利要求5所述的设备,其中所述流体递送出口共同包括周边,并且其中所述流体捕集入口的位置和尺寸被设定为,使得共同出口周边的至少70%被所述流体捕集入口外接。
11.根据权利要求1所述的设备,其中所述流体递送出口中的每一个均具有工作面,所述工作面包括流体可渗透片材。
12.根据权利要求11所述的设备,其中每一个流体可渗透片材包括具有通孔的不连续筛网,所述通孔为所述片材提供的百分比开口面积在20%和80%之间。
13.根据权利要求11所述的设备,其中每一个流体递送出口的所述流体可渗透片材被设置为相对于沿流体递送通道的流体流动的大致方向成一锐角,其中所述流体递送出口被流体连接至所述流体递送通道。
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