[发明专利]具有工程粒子的保偏投影屏幕及其制造方法无效
申请号: | 201080064434.8 | 申请日: | 2010-12-22 |
公开(公告)号: | CN102763034A | 公开(公告)日: | 2012-10-31 |
发明(设计)人: | G·夏普;D·科尔曼;J·彼得森;C·里奇;R·J·柳安多斯基 | 申请(专利权)人: | 瑞尔D股份有限公司;韦夫弗朗特技术股份有限公司 |
主分类号: | G03B21/56 | 分类号: | G03B21/56;G03B21/60 |
代理公司: | 北京嘉和天工知识产权代理事务所(普通合伙) 11269 | 代理人: | 严慎 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 具有 工程 粒子 投影 屏幕 及其 制造 方法 | ||
1.一种用于提供投影屏幕的方法,所述方法包括:
对第一基底的至少第一侧进行压印,以生成光学功能材料;
将所述光学功能材料切割成小块,以生成多个工程粒子;以及
将所述多个工程粒子沉积在第二基底上,以生成所述投影屏幕的基本上均质的光学外观。
2.如权利要求1所述的方法,还包括对所述第一基底的第二侧进行压印以生成所述光学功能材料。
3.如权利要求2所述的方法,其中所述第一基底的第一侧和第二侧上的压印是基本上相似的图案。
4.如权利要求2所述的方法,其中所述第一基底的第一侧和第二侧上的压印是不同的图案。
5.如权利要求1所述的方法,其中所述压印还包括保持预定容限,进一步地,其中所述预定容限至少基于所述投影屏幕的长范围统计特征与总体统计特征之间的差值。
6.如权利要求1所述的方法,其中将所述多个工程粒子沉积在所述第二基底上在所述第二基底上提供基本上逼近被压印的第一基底的统计特征的表面。
7.如权利要求1所述的方法,还包括将反射覆层分布在所述第一基底的至少第一侧上。
8.如权利要求7所述的方法,其中所述反射覆层基本上保形于所述第一基底的压印表面。
9.如权利要求7所述的方法,还包括将光学覆层分布在所述第一基底的至少第一侧上,并且与所述反射覆层相邻。
10.如权利要求9所述的方法,其中所述光学覆层是可操作来使所述反射覆层钝化的介电覆层。
11.如权利要求7所述的方法,其中所述反射覆层是铝。
12.如权利要求1所述的方法,还包括组合所述多个工程粒子与粘合剂以生成覆层。
13.如权利要求12所述的方法,还包括匹配所述第一基底和所述粘合剂的折射率。
14.如权利要求1所述的方法,其中切割所述光学功能材料还包括生成所述多个工程粒子的大致垂直侧壁,其中所述侧壁基本上是光滑的。
15.如权利要求1所述的方法,其中切割所述光学功能材料还包括生成大致六边形工程粒子。
16.如权利要求15所述的方法,其中所述大致六边形工程粒子的尺寸为1毫米。
17.如权利要求1所述的方法,其中切割所述光学功能材料还包括生成尺寸类似的工程粒子。
18.如权利要求17所述的方法,其中所述尺寸类似的工程粒子的形状为大致六边形。
19.如权利要求1所述的方法,其中所述压印生成具有这样的特征的压印层,在所述特征中,平均特征尺寸在面内的最大尺寸为大致10微米。
20.如权利要求1所述的方法,其中将所述多个工程粒子沉积在所述第二基底上还包括利用基本上最少的树脂外覆层在光学界面处生成基本上连续的金属表面。
21.如权利要求1所述的方法,其中将所述多个工程粒子沉积在所述第二基底上基本上使粒子倾侧统计特征对所述散射分布的影响最小。
22.如权利要求1所述的方法,其中所述第二基底具有粘结剂层。
23.如权利要求22所述的方法,其中所述粘结剂层是压敏粘结剂。
24.如权利要求1所述的方法,其中所述第二基底是不规则形状的表面。
25.如权利要求24所述的方法,其中所述不规则形状的表面是圆顶。
26.如权利要求12所述的方法,其中分布所述覆层可操作来基本上使所述粒子倾侧统计特征对所述覆层的散射分布的作用最小。
27.如权利要求1所述的方法,其中分布所述覆层还包括生成单个的工程粒子的密集叠堆,所述密集叠堆基本上位于在所述覆层的表面处的面内。
28.如权利要求1所述的方法,还包括对于所述多个工程粒子的各个工程粒子保持高粒子特征比。
29.如权利要求1所述的方法,其中所述第一基底具有在5至50微米的范围内的厚度。
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