[发明专利]利用压料辊的速度控制在挤压涂布膜的同时消除缺陷的方法

说明书

背景技术

针对诸如反射器、偏光器和带通滤波器的多种用途制备挤压涂布光学膜。因为制备这些膜是为了它们的光学性能，所以控制制备的被挤压涂布的膜的透明度或雾度是极其重要的。被挤压涂布的膜的透明度或雾度的再小的偏差（诸如由于光学缺陷引起的那些偏差）可使得产品不适于其预期应用。

发明内容

现在已经确定，在膜挤压涂布工艺中，可通过控制弹性辊和浇铸辊之间的相对速度失配来消除内部光学缺。具体地讲，已发现，当涂布双轴取向的膜时，相对于所述浇铸辊，使所述弹性辊的表面速度减慢，从而去除光学缺陷（低速）。反之，已发现，当涂布单轴取向的膜时，相对于所述浇铸辊，使所述弹性辊的表面速度加快，从而去除光学缺陷（超速）。

光学缺陷的确切原因未知，并且被认为与在涂布膜进入弹性辊和浇铸辊之间的辊隙时在膜和挤压涂层之间俘获的空气相关。光学缺陷通常被发现位于涂布膜内部并且不呈现在涂布膜的任一表面上。利用速度控制去除内部光学缺陷是一个意外发现，这是因为具有和不具有光学缺陷的相似的涂布膜具有大体相同的总厚度和表面特性，而一般期望涂布膜会由于使用不同的速度控制而改变。辊隙中的表面速度失配怎样改变涂布膜的内部光学性能的确切机制未被全面理解。为何一种类型的膜需要超速而另一类型的膜需要低速也未被理解。根据辊隙结构，人们能够预期到仅涂布膜的外部表面性能将通过改变相对表面速度而变化。

因此，在一个实施例中，本发明涉及于一种消除挤压涂布膜中的光学缺陷的方法，包括：将膜运送到涂布站，所述涂布站包括挤靠在一起的弹性辊和浇铸辊以及邻近辊隙的挤压涂布模头；使所述膜与所述弹性辊接触，同时将聚合物材料挤出到所述辊隙中；以及将弹性辊的表面速度调节为与浇铸辊的表面速度不同以消除光学缺陷，使得弹性辊的表面速度与浇铸辊的表面速度之间的差值不超过浇铸辊的表面速度的±5%。

在另一实施例中，本发明涉及于一种消除挤压涂布膜中的光学缺陷的方法，包括：将膜运送到涂布站，所述涂布站包括挤靠在一起的弹性辊和浇铸辊以及邻近辊隙的挤出模头，其中浇铸辊具有用于在所述膜上形成微复制型图案的多个峰和谷，并且其中所述辊隙中的辊隙压力为至少100磅/线英寸（175N/cm）；使所述膜与所述弹性辊接触，同时将聚合物材料挤出到所述辊隙中；以及将弹性辊的表面速度调节为与浇铸辊的表面速度不同以消除光学缺陷。

在另一实施例中，本发明涉及于一种消除挤压涂布膜中的光学缺陷的方法，包括：将膜运送到涂布站，所述涂布站包括挤靠在一起的弹性辊和浇铸辊以及邻近辊隙的挤出模头；使所述膜与所述弹性辊接触，同时将聚合物材料挤出到所述辊隙中，以形成厚度为所述膜的厚度的至少2倍的涂布层；以及将弹性辊的表面速度调节为与浇铸辊的表面速度不同以消除光学缺陷。

附图说明

本领域的普通技术人员应当了解，本发明的讨论仅是针对示例性实施例的描述，其并不旨在限制本发明的更广泛的方面，其中更广泛的方面体现在示例性构造中。

图1示出了用于在膜上挤压涂布的涂布站。

图2是通过比较例1制备的膜的照片。

图3是通过实例2制备的膜的照片。

图4是通过实例3制备的膜的照片。

图5是通过实例4制备的膜的照片。

图6是通过实例5制备的膜的照片。

图7是通过实例6制备的膜的照片。

图8是通过实例7制备的膜的照片。

图9是通过实例8制备的膜的照片。

在说明书和附图中重复使用的引用字符旨在表示本发明相同或类似的部件或元件。

定义

如本文所用，词语“包含”、“具有”和“包括”在法律上是具有等同含义的开放型术语。因此，除了列举的元件、功能、步骤或限制之外，还可以有其他未列举的元件、功能、步骤或限制。

如本文所用，“膜”是厚度明显小于其宽度或长度的聚合物幅材。

具体实施方式

现在参见图1，示出了用于挤压涂布膜12的涂布站10。涂布站10包括弹性辊14，所述弹性辊与浇铸辊16挤靠在一起。用于将聚合物材料20挤出到辊隙22中的挤出模头18被布置为邻近所述挤靠在一起的辊。进入膜12由诸如退绕的上游工艺供应（例如松卷工艺），并且其接触弹性辊的外表面24。通常，膜12缠绕弹性辊的外表面24的至少一部分。