[发明专利]用于涂布玻璃基板的设备和方法

权利要求书

1.一种用于使用一种或多种液态初始材料来涂布玻璃基板（15）的设备，该设备包括：

至少一个雾化器（2），所述至少一个雾化器用于将所述一种或多种液态初始材料雾化成微滴（3）；

沉积腔室（16），在所述沉积腔室中，所述液态初始材料在基板（15）的表面上发生反应；以及

热反应器，所述热反应器用于在初始材料在基板（15）的表面上发生反应之前使微滴（3）汽化，

其特征在于：

所述设备还包括引导装置，所述引导装置用于在使微滴（3）汽化之前，利用电场力将微滴（3）朝向基板（15）的表面引导。

2.如权利要求1所述的设备，其中，所述引导装置包括加电荷装置（4；32），以用于在雾化期间或在雾化之后对微滴（3）进行电力加电荷。

3.如权利要求2所述的设备，其中，所述至少一个雾化器（2）是双流体雾化器，而加电荷装置（32）布置成对在所述双流体雾化器（2）中使用的气体的至少一部分加电荷，以用于对微滴（3）进行电力加电荷。

4.如权利要求2所述的设备，其中，所述加电荷装置（4）包括一个或多个用于对微滴（3）进行电力加电荷的电晕电极，或者所述加电荷装置包括喷吹加电荷器，所述喷吹加电荷器供应已电力加电荷的气体以对微滴（3）加电荷。

5.如权利要求2-4中任一项所述的设备，其中，所述设备包括加电荷腔室（1），所述加电荷腔室布置在所述沉积腔室（16）的上游，并且设有用于对微滴（3）进行电力加电荷的加电荷装置（4）。

6.如权利要求5所述的设备，其中，所述至少一个雾化器（2）布置在所述加电荷腔室（1）内部，或者布置在所述加电荷腔室（1）的上游。

7.如权利要求5所述的设备，其中，所述加电荷装置（4）布置在加电荷腔室（1）内以用于对微滴（3）进行电力加电荷。

8.如权利要求2-4中任一项所述的设备，其中，所述加电荷装置（4）布置在所述沉积腔室（16）内，或者与所述沉积腔室（16）的入口相连，微滴（3）通过所述入口被供应到所述沉积腔室（16）中，或者所述加电荷装置紧挨着布置在所述沉积腔室（16）的上游。

9.如权利要求8所述的设备，其中，所述至少一个雾化器（2）布置在所述沉积腔室（16）的上游，包括微滴（3）的气雾剂布置成作为层流状气雾剂流供应到所述沉积腔室（16）中。

10.如权利要求8或9所述的设备，其中，进入所述沉积腔室（16）中的气雾剂流的雷诺数低于2000。

11.如权利要求8至10中任一项所述的设备，其中，所述加电荷装置（4）包括横向于微滴（3）的移动方向延伸的细长电晕电极（4）。

12.如权利要求8至11中任一项所述的设备，其中，保护气体流设置在加电荷装置（4）与微滴（3）之间。

13.如权利要求1至12中任一项所述的设备，其中，所述引导装置包括设置在沉积腔室（16）中的一个或多个电场，用于将已电力加电荷的微滴（3）朝向基板（15）的表面引导。

14.如权利要求13所述的设备，其中，所述设备包括在微滴（3）的移动方向上邻近和/或连续布置的两个或更多个电场，所述邻近和/或连续布置的电场中的至少一些具有相同或不同的电场强度，以用于调整已电力加电荷的微滴（3）的分布。

15.如权利要求13或14所述的设备，其中，一个或多个电场设置在所述沉积腔室（16）中相对的电极（13、14）之间，且所述基板（15）在沉积腔室（16）中位于所述相对的电极（13、14）之间。

16.如权利要求1至15中任一项所述的设备，其中，所述热反应器是通过燃烧气体和氧化气体所产生的火焰，或者所述热反应器是由气体提供的等离子体。

17.如权利要求1至15中任一项所述的设备，其中，所述热反应器是利用加热装置提供的热区，或者所述热反应器由基板（15）的热能来提供，用于在初始材料在基板（15）的表面上发生反应之前，在靠近基板（15）的表面处使微滴（3）汽化。