[发明专利]纳米颗粒过滤器有效
申请号: | 201080067917.3 | 申请日: | 2010-07-15 |
公开(公告)号: | CN102971248A | 公开(公告)日: | 2013-03-13 |
发明(设计)人: | 文森夏·卡萨桑塔三世 | 申请(专利权)人: | 英派尔科技开发有限公司 |
主分类号: | B82B3/00 | 分类号: | B82B3/00;B01D43/00;B01D49/00;B01D51/02;B82B1/00;H05H1/46 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 吕雁葭 |
地址: | 美国特*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 纳米 颗粒 过滤器 | ||
1.一种用于从流体去除纳米颗粒的方法,所述方法包括:
向所述流体施加第一光以产生第一等离子体激元,其中所述第一等离子体激元用于聚集所述纳米颗粒以产生纳米颗粒集合体;以及
向所述流体施加第二光以产生第二等离子体激元,其中所述第二等离子体激元用于将所述纳米颗粒集合体移动到一定位置。
2.根据权利要求1所述的方法,其中所述第一光和所述第二光具有约300nm至约700nm的波长。
3.根据权利要求1所述的方法,其中:
将所述流体提供到腔室中;
所述腔室包括金属膜;
在所述金属膜中产生所述第一等离子体激元;以及
将所述第一等离子体激元耦合至所述流体。
4.根据权利要求1所述的方法,在施加所述第一光之前还包括:
通过所述腔室的输入端口将所述流体馈送到腔室中;以及
关闭所述输入端口。
5.根据权利要求1所述的方法,还包括:在施加所述第一光的同时和施加所述第二光的同时,
通过输入端口将所述流体馈送到腔室中;以及
通过输出端口将所述流体馈送出所述腔室。
6.根据权利要求1所述的方法,还包括:
按照特定的重复速率将施加第一光和施加第二光重复多次。
7.根据权利要求1所述的方法,其中在所述流体中产生所述第一等离子体激元。
8.根据权利要求4所述的方法,还包括向所述腔室的第一位置施加所述第一光以产生所述第一等离子体激元。
9.根据权利要求8所述的方法,还包括向所述腔室的第二位置施加所述第二光以产生所述第二等离子体激元,并且其中所述第一等离子体激元和所述第二等离子体激元用于将所述纳米颗粒集合体移动至所述位置。
10.根据权利要求1所述的方法,其中:
将所述流体提供到腔室中,
所述腔室包括多个壁,并且所述方法还包括
向所述壁的每一个上的相应第一和第二位置施加相应的第一和第二光。
11.一种纳米颗粒过滤器,包括:
腔室,具有至少一个壁和至少一个端口,其中所述腔室配置为贮存包括所述纳米颗粒在内的流体,并且允许足以产生一个或多个等离子体激元的光能量的透射;以及
光源,配置为向所述腔室提供足以产生所述一个或多个等离子体激元的光能量;
其中所述等离子体激元用于在一个或多个纳米颗粒上产生净力矢量,所述净力矢量足以将所述一个或多个纳米颗粒朝着所述至少一个端口移动。
12.根据权利要求11所述的纳米颗粒过滤器,还包括:
与所述光源通信的处理器;
其中所述处理器用于:
控制所述光源以向所述腔室的第一位置施加第一光以产生第一等离子体激元,其中所述第一等离子体激元用于产生第一纳米颗粒集合体;以及
控制所述光源向所述腔室的第二位置施加第二光以产生第二等离子体激元,其中所述第二等离子体激元用于产生第二颗粒集合体,其中所述第一和第二等离子体激元还用于将所述纳米颗粒朝着所述端口移动。
13.根据权利要求12所述的纳米颗粒过滤器,其中:
所述腔室的壁包括金属膜;
在所述金属膜中产生所述第一等离子体激元,并且所述第一等离子体激元耦合至所述流体。
14.根据权利要求12所述的纳米颗粒过滤器,其中所述腔室还包括:
输入端口;以及
输出端口。
15.根据权利要求14所述的纳米颗粒过滤器,其中所述处理器还与所述输入端口和所述输出端口通信,并且所述处理器还用于控制所述输入端口以将所述流体馈送到所述腔室中以及关闭所述输入端口。
16.根据权利要求14所述的方法,其中所述处理器还与所述输入端口和所述输出端口通信,并且所述处理器还在控制所述光源施施加所述第一光并且控制所述光源施加所述第二光的同时,用于:
控制所述输入端口将所述流体馈送到所述腔室中;以及
控制所述输出端口将所述流体馈送出所述腔室。
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