[发明专利]用于多孔径成像的闪光系统有效

专利信息
申请号: 201080068706.1 申请日: 2010-07-16
公开(公告)号: CN103250405A 公开(公告)日: 2013-08-14
发明(设计)人: A·A·瓦杰斯 申请(专利权)人: 双光圈股份有限公司
主分类号: H04N5/225 分类号: H04N5/225;H04N5/235
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 蒋世迅
地址: 美国加*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 用于 多孔 成像 闪光 系统
【权利要求书】:

1.形成情景的像的方法,该方法包含步骤:

-通过使用至少第一孔径把像传感器对来自电磁波(EM)频谱的第一部分的辐射曝光,并使用有与第一孔径不同大小的至少第二孔径,对来自EM频谱的第二部分的辐射曝光,捕获该情景的第一像;

-在由来自EM频谱的第一部分的辐射产生的第一像的像数据基础上,并且在由来自EM频谱的第二部分的辐射产生的第一像的像数据基础上,形成该情景的像。

-其中,与捕获该第一像同时,该情景被来自EM频谱的第二部分的辐射照明。

2.按照权利要求1的方法,其中该情景按照预定的一个或多个照明参数被用来自EM频谱的第二部分的辐射照明,且其中在捕获该第一像之前,该一个或多个照明参数通过如下被预定:

-在情景没有被用来自EM频谱的第二部分的辐射照明的情况下,通过使用至少第一孔径把像传感器对来自EM频谱的第一部分的辐射曝光,并且使用至少第二孔径,对来自EM频谱的第二部分的辐射曝光,捕获该情景的第二像,

-产生与EM频谱的第一部分相关联的第二像的像数据和与EM频谱的第二部分相关联的第二像的像数据,

-基于与EM频谱的第一部分相关联的第二像的像数据和与EM频谱第二部分相关联的第二像的像数据,确定与EM频谱的第一部分相关联的频谱能量强度或其派生者和与EM频谱的第二部分相关联的频谱能量强度或其派生者之间的比值,以及

-基于该确定的比值,设定该一个或多个照明参数。

3.按照权利要求1的方法,其中该情景按照预定的一个或多个照明参数,被用来自EM频谱的第二部分的辐射照明,且其中在捕获该第一像之前,该一个或多个照明参数通过如下被预定:

-在情景没有被用来自EM频谱的第二部分的辐射照明的情况下,通过使用至少第一孔径把像传感器对来自EM频谱的第一部分的辐射曝光,并且使用至少第二孔径,对来自EM频谱的第二部分的辐射曝光,捕获第二像,

-产生与EM频谱的第一部分相关联的第二像的像数据和与EM频谱的第二部分相关联的第二像的像数据,

-在与EM频谱的第一部分相关联的第二像的像数据和与EM频谱的第二部分相关联的第二像的像数据的基础上,产生与被捕获的第二像相关联的深度信息,和

-基于该产生的深度信息,设定该一个或多个照明参数。

4.按照权利要求3的方法,其中该深度信息是在与EM频谱的第一部分相关联的第二像的像数据的至少一个区域中的第一清晰度信息和与EM频谱的第二部分相关联的第二像的像数据的至少一个区域中的第二清晰度信息的基础上被产生。

5.按照权利要求3的方法,其中该深度信息是在与EM频谱第二部分相关联的第二像的像数据中位移信息的基础上被产生,最好是在与和EM频谱的第二部分相关联的第二像的像数据相关联的高频像数据的自相关函数中的位移信息的基础上被产生。

6.按照前面权利要求任一项的方法,还包括步骤:

-在捕获第一像同时该情景被用来自EM频谱的第二部分的辐射照明期间,确定与EM频谱的第二部分相关联的频谱能量强度或其派生者是否已经达到预定的阈值,和

-一经这样的确定,就中断用EM频谱的第二部分的辐射对该情景的照明。

7.按照前面权利要求任一项的方法,其中该像传感器同时对来自第一和第二孔径的辐射曝光。

8.按照前面权利要求任一项的方法,该方法还包括步骤:

-把与EM频谱的第一部分相关联的第一像的像数据施加到高通滤波器;

-把与EM频谱的第一部分相关联的第一像的像数据的滤出的高频分量添加到与EM频谱的第二部分相关联的第一像的像数据中。

9.按照前面权利要求任一项的方法,其中该EM频谱的第一部分包括可见光谱的至少一部分,而该EM频谱的第二部分包括不可见光谱,最好是红外光谱,的至少一部分。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于双光圈股份有限公司,未经双光圈股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201080068706.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top