[发明专利]用于利用聚焦的电磁辐射处理物质的装置和方法

权利要求书

1.一种用于利用聚焦的电磁辐射处理物质（M）的装置，包括：

发射电磁辐射（12）的源（10），

用于引导的模块（14、16、18、22、26），将辐射引导到所述物质（M）上，

用于聚焦的模块（28），将辐射聚焦到所述物质上或所述物质内，

用于产生图案的模块（20），在电磁辐射的光路中产生图案，

至少部分反射性的表面（30），位于聚焦的辐射的焦点以前的光路中，所述图案（32）通过所述用于引导的模块和所述用于聚焦的模块中的至少一部分映像到所述至少部分反射性的表面（30）上，

至少一个检测器（D1、D2），所述图案的图像被所述表面（30）反射到所述至少一个检测器（D1、D2）上并且所述至少一个检测器（D1、D2）产生与所述图像相对应的电信号，其中所述图像包含与所述焦点的位置相关的信息，

计算机（C），接收所述电信号并且被编制程序来处理所述图像，以便根据焦点位置来产生电信号，以及

发散调整元件（18），被布置在所述光路中并且适合于接收所述计算机的所述电信号（34），以便根据所述信号来改变电磁辐射的发散度。

2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，

所述表面（30）被布置在所述电磁辐射离开所述装置的位置。

3.根据权利要求1或权利要求2之一所述的装置，其特征在于，

所述物质（M）是眼组织，优选是角膜。

4.根据前面的权利要求之一所述的装置，其特征在于，

所述源（10）是激光器，优选是飞秒激光器。

5.根据前面的权利要求之一所述的装置，其特征在于，

所述表面（30）是适于压靠在角膜上的压平表面。

6.根据前面的权利要求之一所述的装置，其特征在于，

所述图案（32）包括两个或更多个点（P）。

7.根据前面的权利要求之一所述的装置，其特征在于，

所述发散调整元件（18）包括望远镜、可变形镜以及可变形透镜之一。

8.根据前面的权利要求之一所述的装置，其特征在于，

两个检测器（D1、D2），所述检测器之一（D1）检测由所述源（10）发射的辐射，以及所述检测器中的另一检测器（D2）检测由表面（30）反射的辐射。

9.根据前面的权利要求之一所述的装置，其特征在于，

产生所述图案（32）的单元（20）被布置在所述发散调整元件（18）后面的电磁辐射的光路中。

10.根据前面的权利要求之一所述的装置，其特征在于，

所述图案（32）包括以矩阵形式排列的点（P）。

11.一种用于利用聚焦的电磁辐射处理物质的方法，包括以下步骤：

利用源（10）产生电磁辐射（12）；

将辐射引导到待处理的物质上；

将辐射聚焦到所述物质上或所述物质内；

利用电磁辐射产生图案（32）；

在聚焦的辐射的焦点（F）以前的电磁辐射的光路中提供至少部分反射性的表面（30）；

将所述图案映像在所述至少部分反射性的表面（30）上；

利用至少一个检测器（D1、D2）检测由所述表面（30）反射的辐射，所检测的图像包含与所述焦点（F）的位置相关的信息；

产生代表所检测的图像的电信号；

在计算机（C）中处理所述电信号，以便根据焦点位置产生电信号（34）；以及

根据所述电信号（34）调整所述发射的辐射的发散度。