[发明专利]水处理设备和系统无效

专利信息
申请号: 201080069235.6 申请日: 2010-10-26
公开(公告)号: CN103118987A 公开(公告)日: 2013-05-22
发明(设计)人: 姜东根;权凡根 申请(专利权)人: 英派尔科技开发有限公司
主分类号: C02F1/32 分类号: C02F1/32;B01J19/08
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 牛海军
地址: 美国特*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 水处理设备 系统
【权利要求书】:

1.一种用于水处理的设备,所述设备包括:

一个或多个反应器,所述一个或多个反应器配置用于水处理;

一个或多个光源,所述一个或多个光源配置为在所述一个或多个反应器内提供紫外光;

光催化剂,所述光催化剂安置在所述一个或多个反应器的每一个中并且配置为从所述一个或多个光源接收所述紫外光;和

纯氧源,所述纯氧源连接至所述一个或多个反应器并且配置为将纯氧提供至所述水。

2.权利要求1所述的设备,其中所述一个或多个反应器的每一个包括至少一个入水口,所述至少一个入水口配置为接收要处理的水。

3.权利要求1所述的设备,其中所述一个或多个反应器的每一个包括至少一个出水口,所述至少一个出水口配置为移除已经通过所述一个或多个反应器的经处理的水。

4.权利要求1所述的设备,所述设备还包括:

一个或多个水通道,所述一个或多个水通道与所述一个或多个反应器连接并且配置为将水提供至所述一个或多个反应器或将水从所述一个或多个反应器移除。

5.权利要求1所述的设备,其中所述一个或多个光源安置在所述一个或多个反应器内部。

6.权利要求1所述的设备,其中所述一个或多个光源沿所述一个或多个反应器的纵轴安置。

7.权利要求1所述的设备,其中所述一个或多个光源安置在所述一个或多个反应器外部。

8.权利要求1所述的设备,其中所述光催化剂至少部分地涂布所述一个或多个反应器的内表面。

9.权利要求1所述的设备,其中所述光催化剂配置为粒子、板、片、线或网的形式。

10.权利要求9所述的设备,其中所述光催化剂包含选自由以下各项组成的组的材料:TiO2、ZnO、WO3、CdS、Fe2O3、MnO2、CeO2、CuO和RTiO3化合物,其中R是Sr、Ba、Ca、Al或Mg。

11.权利要求10所述的设备,其中将所述光催化剂用选自由以下各项组成的组的至少一种金属金属化:Pt、Pd、Au、Ag、Re、Ru、Fe、Cu、Bi、Ta、Ti、Ni、Mn、V、Cr、Y、Sr、Li、Co、Nb、Mo、Zn、Sn、Sb和Al。

12.权利要求1所述的设备,其中所述纯氧源连接至安置在所述一个或多个反应器上游的水通道。

13.权利要求1所述的设备,所述设备还包括:

控制装置,所述控制装置连接至所述纯氧源并且配置为调节提供至所述水的所述纯氧的量和/或速率。

14.权利要求1所述的设备,其中所述一个或多个反应器由塑料、玻璃、陶瓷或金属制成。

15.权利要求14所述的设备,其中所述塑料选自由以下各项组成的组:聚乙烯、聚丙烯、聚酰胺、聚酯、聚酰亚胺、聚苯乙烯、丙烯腈-丁二烯-苯乙烯三元共聚物、丙烯酸类聚合物、氟化聚合物,以及它们的组合。

16.权利要求14所述的设备,其中所述玻璃选自由以下各项组成的组:钠钙玻璃、石英玻璃、硼硅玻璃、丙烯酸类玻璃、糖玻璃、白云母、氧氮化铝,以及它们的组合。

17.权利要求14所述的设备,其中所述陶瓷选自由以下各项组成的组:氧化铝、氧化锆、氧化锆增韧的氧化铝、滑石、多铝红柱石、堇青石、熔岩、氮化硼,以及它们的组合。

18.权利要求14所述的设备,其中所述金属选自由以下各项组成的组:铁、不锈钢、铜、钛、铝,以及它们的组合。

19.权利要求1所述的设备,其中所述一个或多个反应器涂布有金属材料以反射来自所述一个或多个光源的所述紫外光。

20.权利要求19所述的设备,其中所述金属材料选自由以下各项组成的组:铝、不锈钢、氧化锌、氧化铁、氧化镁和二氧化钛。

21.权利要求1所述的设备,所述设备还包括:

一个或多个套管,所述一个或多个套管配置为防止所述一个或多个光源与所述水之间的接触。

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