[发明专利]激光装置以及具备该激光装置的激光加工装置有效

专利信息
申请号: 201080069641.2 申请日: 2010-10-18
公开(公告)号: CN103155308A 公开(公告)日: 2013-06-12
发明(设计)人: 今井浩文;平野弘二 申请(专利权)人: 新日铁住金株式会社
主分类号: H01S3/10 分类号: H01S3/10;B23K26/08
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 胡建新;朴勇
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 激光 装置 以及 具备 加工
【权利要求书】:

1.一种激光装置,其特征在于,具有:

第一激光振荡器,出射第一激光;

作为双包层光纤的无源光纤,通过芯体来传输上述第一激光;以及

第二激光振荡器,出射被入射到该无源光纤的内侧包层的第二激光。

2.根据权利要求1所述的激光装置,其特征在于,

上述第一激光振荡器具有:

激光谐振器,具有在芯体中添加有稀土类元素的作为双包层光纤的有源光纤;以及

激发用光源,出射被入射到上述有源光纤的内侧包层的激发光,

在上述有源光纤的下游侧连接有上述无源光纤。

3.根据权利要求1所述的激光装置,其特征在于,

入射到上述无源光纤的芯体的上述第一激光的入射角θFL,小于入射到上述无源光纤的上述内侧包层的上述第二激光的入射角θLD

4.根据权利要求1所述的激光装置,其特征在于,

上述第一激光的波长λ1和上述第二激光的波长λ2满足0.6≤λ2/λ1≤0.97。

5.一种激光加工装置,将激光聚光后照射到被加工材料,其特征在于,具备:

根据权利要求1~4中的任一项所述的激光装置;以及

照射光学系统,具有准直透镜和聚光透镜。

6.根据权利要求5所述的激光加工装置,其特征在于,

上述第二激光的功率密度Ib小于上述第一激光的功率密度Ia

7.根据权利要求6所述的激光加工装置,其特征在于,上述第二激光的上述功率密度Ib满足下式(1),

Ib·(D2-D1)/2>0.2·(1/A)·κ·{ρCp(Tm-T0)+ρLm}···(1)

其中,

D1:上述第一激光的聚光点直径

D2:上述第二激光的聚光点直径

A:对于上述被加工材料的上述第二激光的吸收率

κ:上述被加工材料的热扩散系数

ρ:上述被加工材料的密度

Cp:上述被加工材料的比热

Tm:上述被加工材料的熔点

T0:上述被加工材料的初始温度(常温)

Lm:上述被加工材料的熔解潜热。

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