[发明专利]激光装置以及具备该激光装置的激光加工装置有效
申请号: | 201080069641.2 | 申请日: | 2010-10-18 |
公开(公告)号: | CN103155308A | 公开(公告)日: | 2013-06-12 |
发明(设计)人: | 今井浩文;平野弘二 | 申请(专利权)人: | 新日铁住金株式会社 |
主分类号: | H01S3/10 | 分类号: | H01S3/10;B23K26/08 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 胡建新;朴勇 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 激光 装置 以及 具备 加工 | ||
1.一种激光装置,其特征在于,具有:
第一激光振荡器,出射第一激光;
作为双包层光纤的无源光纤,通过芯体来传输上述第一激光;以及
第二激光振荡器,出射被入射到该无源光纤的内侧包层的第二激光。
2.根据权利要求1所述的激光装置,其特征在于,
上述第一激光振荡器具有:
激光谐振器,具有在芯体中添加有稀土类元素的作为双包层光纤的有源光纤;以及
激发用光源,出射被入射到上述有源光纤的内侧包层的激发光,
在上述有源光纤的下游侧连接有上述无源光纤。
3.根据权利要求1所述的激光装置,其特征在于,
入射到上述无源光纤的芯体的上述第一激光的入射角θFL,小于入射到上述无源光纤的上述内侧包层的上述第二激光的入射角θLD。
4.根据权利要求1所述的激光装置,其特征在于,
上述第一激光的波长λ1和上述第二激光的波长λ2满足0.6≤λ2/λ1≤0.97。
5.一种激光加工装置,将激光聚光后照射到被加工材料,其特征在于,具备:
根据权利要求1~4中的任一项所述的激光装置;以及
照射光学系统,具有准直透镜和聚光透镜。
6.根据权利要求5所述的激光加工装置,其特征在于,
上述第二激光的功率密度Ib小于上述第一激光的功率密度Ia。
7.根据权利要求6所述的激光加工装置,其特征在于,上述第二激光的上述功率密度Ib满足下式(1),
Ib·(D2-D1)/2>0.2·(1/A)·κ·{ρCp(Tm-T0)+ρLm}···(1)
其中,
D1:上述第一激光的聚光点直径
D2:上述第二激光的聚光点直径
A:对于上述被加工材料的上述第二激光的吸收率
κ:上述被加工材料的热扩散系数
ρ:上述被加工材料的密度
Cp:上述被加工材料的比热
Tm:上述被加工材料的熔点
T0:上述被加工材料的初始温度(常温)
Lm:上述被加工材料的熔解潜热。
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