[发明专利]二次电池用负极材料、二次电池用负极、二次电池用负极材料的制造方法和二次电池用负极的制造方法无效

专利信息
申请号: 201080070412.2 申请日: 2010-11-29
公开(公告)号: CN103229334A 公开(公告)日: 2013-07-31
发明(设计)人: 坂口裕树;薄井洋行;井上良二;安藤节夫;浅田贤 申请(专利权)人: 株式会社新王材料;国立大学法人鸟取大学
主分类号: H01M4/38 分类号: H01M4/38;H01M4/134;H01M4/1395;H01M4/36
代理公司: 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 代理人: 龙淳
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 二次 电池 负极 材料 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种二次电池用负极材料,其特征在于:

其为构成在二次电池用负极(200、500)的集电体层(201)上形成的活性物质层(202、502)的二次电池用负极材料(100),

所述二次电池用负极材料包括:

Si颗粒(1);和

以局部地覆盖所述Si颗粒的表面(1a)的方式呈岛状、点状或网状地分布而形成的包含Ni和P的包覆材料(2)。

2.如权利要求1所述的二次电池用负极材料,其特征在于:

所述包覆材料覆盖所述Si颗粒的表面中的1%以上25%以下的所述表面。

3.如权利要求1所述的二次电池用负极材料,其特征在于:

所述包含Ni和P的包覆材料的至少一部分是Ni3P的晶体结构。

4.如权利要求1所述的二次电池用负极材料,其特征在于:

所述包覆材料包括0.5质量%以上50质量%以下的P、和Ni。

5.如权利要求4所述的二次电池用负极材料,其特征在于:

所述包覆材料包括5质量%以上16质量%以下的P、和Ni。

6.一种二次电池用负极,其特征在于,包括:

集电体层;和

在所述集电体层的表面上形成的活性物质层,

所述活性物质层包括:

Si部分(1、221)和

以呈岛状、点状或网状地分布在所述Si部分或所述Si部分间的方式形成的具有Ni和P的包覆部分(2、222)。

7.如权利要求6所述的二次电池用负极,其特征在于:

在所述活性物质层的所述Si部分或所述Si部分间,形成有空隙(223、523)。

8.如权利要求7所述的二次电池用负极,其特征在于:

所述空隙以所述活性物质层的20体积%以上70%体积以下的比例形成。

9.如权利要求6所述的二次电池用负极,其特征在于:

所述活性物质层的厚度为1μm以上20μm以下。

10.如权利要求6所述的二次电池用负极,其特征在于:

所述活性物质层的包覆部分包含0.5质量%以上50质量%以下的P、和Ni。

11.如权利要求6所述的二次电池用负极,其特征在于:

所述活性物质层包括:Si层(221);和以呈岛状、点状或网状地分布于所述Si层的方式形成的具有Ni和P的所述包覆部分。

12.如权利要求6所述的二次电池用负极,其特征在于:

所述活性物质层包括:多个Si颗粒(1);和以局部地覆盖所述Si颗粒的表面的方式呈岛状、点状或网状地分布而形成的具有Ni和P的包覆材料(2)。

13.一种二次电池用负极材料的制造方法,其特征在于,包括:

准备Si颗粒的工序;和

使包含Ni和P的包覆材料以局部地覆盖所述Si颗粒的表面的方式呈岛状、点状或网状地分布的工序。

14.如权利要求13所述的二次电池用负极材料的制造方法,其特征在于:

使所述包覆材料分布的工序,包括通过进行镀敷处理而使所述包覆材料分布的工序。

15.如权利要求13所述的二次电池用负极材料的制造方法,其特征在于:

使所述包覆材料分布的工序,包括以覆盖所述Si颗粒的表面之中的1%以上25%以下的所述表面的方式使所述包覆材料分布的工序。

16.如权利要求13所述的二次电池用负极材料的制造方法,其特征在于:

使所述包覆材料分布的工序,包括以使得所述包含Ni和P的包覆材料的至少一部分成为Ni3P的晶体结构的方式使所述包覆材料分布的工序。

17.如权利要求13所述的二次电池用负极材料的制造方法,其特征在于:

所述包覆材料包括0.5质量%以上50质量%以下的P、和Ni。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社新王材料;国立大学法人鸟取大学,未经株式会社新王材料;国立大学法人鸟取大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201080070412.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top