[发明专利]一种相息图合成优化方法

权利要求书

1.一种相息图合成优化方法，该方法基于遗传算法，其特征在于，给原始图像加上一组随机相位掩膜；优化该掩膜；当达到优化条件时，具有最小代价函数的相位掩膜为最佳的掩膜，其对应的相息图即为所求的相息图。

2.如权利要求1所述的相息图合成优化方法，其特征在于，所述随机相位掩膜为随机相位矩阵，用M个相位矩阵表示整个相位掩膜种群。

3.如权利要求1所述的相息图合成优化方法，其特征在于，相息图的获取方法为：将M个随机相位掩膜分别附加在原始图像上，经过二维离散傅里叶变换、振幅归一化、相位量化，从而得到M个相息图；对量化后的M个相息图，分别计算其再现图像和对应的代价函数。

4.如权利要求3所述的相息图合成优化方法，其特征在于，所述信息量化等级为16。

5.如权利要求1所述的相息图合成优化方法，其特征在于，在遗传算法的选择环节，将M个掩膜依据代价函数的大小依次排序，利用精英主义原则进行选择，抛弃代价函数最大的N个个体，复制代价函数最小的N个个体用于维持种群数量。

6.如权利要求1所述的相息图合成优化方法，其特征在于，在遗传算法的交叉环节，采用双点交叉方法：随机生成一个坐标点，然后随机生成交叉区域的高度和宽度，如果交叉区域超过随机掩膜的尺寸，则利用周期性将超出的部分转移到相应的位置。

7.如权利要求1所述的相息图合成优化方法，其特征在于，所述优化条件为迭代次数达到指定值。