[发明专利]电源装置及印刷电路板绕阻制作方法有效

专利信息
申请号: 201110001121.4 申请日: 2011-01-05
公开(公告)号: CN102158051A 公开(公告)日: 2011-08-17
发明(设计)人: 侯召政;毛恒春;傅电波;黄良荣;陈严 申请(专利权)人: 华为技术有限公司
主分类号: H02M1/00 分类号: H02M1/00;H05K1/11;H05K1/16;H05K3/40;H01F5/00
代理公司: 深圳市深佳知识产权代理事务所(普通合伙) 44285 代理人: 彭愿洁;李文红
地址: 518129 广东*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 电源 装置 印刷 电路板 制作方法
【权利要求书】:

1.一种电源装置,其特征在于,包括:

至少一块印刷电路板、

至少一个磁芯、

以及至少一组半导体变换单元;

其中,所述印刷电路板上开设有用于安装所述磁芯的磁芯槽;所述印刷电路板的至少一个磁芯槽的槽侧壁上设置有用于与安装在该磁芯槽的磁芯配合进行电磁变换的侧壁导电绕组,其中,所述侧壁导电绕组附着于所述磁芯槽的槽侧壁的部分或全部表面;

所述半导体变换单元用于与所述磁芯及侧壁导电绕组配合进行电能变换。

2.根据权利要求1所述的电源装置,其特征在于,

设置侧壁导电绕组的槽侧壁为所述印刷电路板上所开任意一个磁芯槽或其组合的槽侧壁。

3.根据权利要求1或2所述的电源模块装置,其特征在于,

所述印刷电路板平面导电层还设置有用于与安装在所述磁芯槽的磁芯配合进行电磁变换的平面导电绕组;所述磁芯槽的槽侧壁上设置的侧壁导电绕组在该槽侧壁表面垂直平面导电层的方向上呈全覆盖或部分覆盖,所述侧壁导电绕组为未与平面导电绕组相连接的独立导电绕组。

4.根据权利要求1或2所述的电源装置,其特征在于,

所述磁芯槽的槽侧壁上设置的侧壁导电绕组在该槽侧壁表面垂直平面导电层的方向呈全覆盖或部分覆盖;

所述印刷电路板的一个平面导电层的平面导电绕组的起始端或该平面导电绕组的其中一段的起始端,与所述槽侧壁上所述侧壁导电绕组的起始端或该侧壁导电绕组的其中一段的起始端相连,所述平面导电绕组的终止端或该平面导电绕组的其中一段的终止端,与该槽侧壁上所述侧壁导电绕组的终止端或该侧壁导电绕组的其中一段的终止端相连,以使得所述侧壁导电绕组与所述平面导电层的平面导电绕组并联,形成与安装在该磁芯槽的磁芯配合进行电磁变换的立体导电绕组。

5.根据权利要求1或2所述的电源装置,其特征在于,

所述磁芯槽的槽侧壁上设置的侧壁导电绕组在该槽侧壁表面垂直平面导电层的方向呈全覆盖或部分覆盖;

所述印刷电路板的多个平面导电层的平面导电绕组的起始端或该多个平面导电绕组的其中一段的起始端,与该槽侧壁上所述侧壁导电绕组的起始端或该侧壁导电绕组的其中一段的起始端相连,所述多个平面导电层的平面导电绕组的终止端或该多个平面导电绕组的其中一段的终止端,与该槽侧壁上所述侧壁导电绕组的终止端或该侧壁导电绕组的其中一段的终止端相连,以使得所述侧壁导电绕组与所述多个平面导电层的导电绕组并联,形成与安装在该磁芯槽的磁芯配合进行电磁变换的立体导电绕组。

6.根据权利要求1或2所述的电源装置,其特征在于:

所述磁芯槽的槽侧壁上设置的侧壁导电绕组在该槽侧壁表面垂直平面导电层的方向呈全覆盖或部分覆盖;

所述印刷电路板的一个或多个平面导电层的平面导电绕组上的起始端或终止端或该平面导电绕组的其中一段的起始端或终止端,与该槽侧壁上与所述侧壁导电绕组起始端或终止端或其中一段的起始端或终止端相连,以使得所述侧壁导电绕组与所述一个或多个平面导电层的平面导电绕组串联,形成与安装在该磁芯槽的磁芯配合进行电磁变换的立体导电绕组。

7.根据权利要求1或2所述的电源装置,其特征在于:

所述磁芯槽的槽侧壁上设置的侧壁导电绕组在该槽侧壁表面垂直平面导电层的方向呈全覆盖或部分覆盖;

所述侧壁导电绕组与所述印刷电路板的多个平面导电层的平面导电绕组串联及并联连接,形成与安装在该磁芯槽的磁芯配合进行电磁变换的立体导电绕组。

8.一种印刷电路板绕组制作方法,其特征在于,包括:

在印刷电路板上需设置侧壁导电绕组的磁芯槽的位置进行铣槽,形成需要电镀的槽孔;

对所述槽孔的侧壁进行电镀,形成侧壁导电绕组;其中,所述侧壁导电绕组的侧表面凹陷或者齐平于该磁性槽的槽口边缘;所述侧壁导电绕组用于与安装在该磁芯槽的磁芯配合进行电磁变换;

若所述磁芯槽的边沿与所述侧壁导电绕组完全重合,则电镀后形成磁芯槽;若磁芯槽的边沿与所述侧壁导电绕组不完全重合,则对印刷电路板上所述磁芯槽边沿的非槽孔位置进行铣槽,形成磁芯槽。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华为技术有限公司,未经华为技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201110001121.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top