[发明专利]一种在金属种植体表面制备壳聚糖四环素涂层的电化学方法无效
| 申请号： | 201110002526.X | 申请日： | 2011-01-07 |
| 公开（公告）号： | CN102011164A | 公开（公告）日： | 2011-04-13 |
| 发明（设计）人： | 蒋滔;张贞;王贻宁;蔡新杰 | 申请（专利权）人： | 武汉大学 |
| 主分类号： | C25D9/02 | 分类号： | C25D9/02;A61L27/34;A61L27/54;A61L27/06 |
| 代理公司： | 武汉科皓知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 42222 | 代理人： | 张火春 |
| 地址： | 430072 湖*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 金属 种植 体表 制备 聚糖 四环素 涂层 电化学 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种在金属种植体表面制备壳聚糖四环素涂层的电化学方法，其特征在于包括以下步骤：
1）配置壳聚糖四环素混合溶液，其中：
a.混合溶液中四环素的浓度≤50g/L；
b.混合溶液的PH值≤5；
2）进行电沉积反应，其中：
a.以壳聚糖四环素混合溶液为电沉积液，并保持其温度在0 ～37℃之间；
b.以铂金片为阳极；
c.以金属种植体为阴极；
3）进行后处理：将电沉积反应后的金属种植体取出，清除表面附着的溶液后对其进行干燥处理。
2.根据权利要求1 所述的一种在金属种植体表面制备壳聚糖四环素涂层的电化学方法，
其特征在于：进行所述的电沉积反应时，电极之间的直流电流在1~4A/cm2之间。
3.根据权利要求1 所述的一种在金属种植体表面制备壳聚糖四环素涂层的电化学方法，
其特征在于：进行所述的电沉积反应时，电极之间的直流电压在1~200V/cm2之间。
4.根据权利要求1~3任一项所述的一种在金属种植体表面制备壳聚糖四环素涂层的电化学方法，其特征在于：所述的金属种植体的材料为钛。
5.根据权利要求1~3任一项所述的一种在金属种植体表面制备壳聚糖四环素涂层的电化学方法，其特征在于：所述的金属种植体的材料为钛合金。
6.根据权利要求1~3任一项所述的一种在金属种植体表面制备壳聚糖四环素涂层的电化学方法，其特征在于：所述的金属种植体的材料为不锈钢。
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