[发明专利]多层膜有效
| 申请号： | 201110005716.7 | 申请日： | 2011-01-07 |
| 公开（公告）号： | CN102134454A | 公开（公告）日： | 2011-07-27 |
| 发明（设计）人： | 间濑良一 | 申请（专利权）人： | 电力支援有限公司 |
| 主分类号： | C09J7/02 | 分类号： | C09J7/02 |
| 代理公司： | 北京三幸商标专利事务所 11216 | 代理人： | 刘激扬 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 多层 | ||
1.一种多层膜，包括材料基片、形成在该材料基片的一面上的粘合层、以及临时固定在该粘合层上的分离片，所述分离片具有强的撕裂方向性。
2.权利要求1的多层膜，还包括在临时固定在第一粘合层上的分离片上形成的第二粘合层、以及临时固定在该第二粘合层上的第二分离片。
3.权利要求1的多层膜，其中该分离片具有至少一条待撕裂方向上的切口。
4.权利要求2的多层膜，其中第一和第二分离片中的至少之一具有至少一条待撕裂方向上的切口。
5.权利要求1的多层膜，其中该材料基片具有待安置在目标物体上的有效区以及一次性区。
6.权利要求2的多层膜，其中该材料基片具有待安置在目标物体上的有效区以及一次性区。
7.权利要求5的多层膜，其中至少一条切口形成在所述一次性区上。
8.权利要求6的多层膜，其中至少一条切口形成在所述一次性区上。
9.权利要求1的多层膜，其中至少一条切口形成在该分离片上。
10.权利要求2的多层膜，其中至少一条切口形成在第一和第二分离片中的至少之一上。
11.权利要求1的多层膜，其中至少一条切口形成在该粘合层和该分离片上。
12.权利要求2的多层膜，其中至少一条切口形成在该粘合层上和第一和第二分离片中的至少之一上。
13.权利要求1的多层膜，其中至少一条切口形成在该材料基片、该粘合层和该分离片上。
14.权利要求2的多层膜，其中至少一条切口形成在该材料基片上、该粘合层上和第一和第二分离片中的至少之一上。
15.权利要求5的多层膜，其中分离线形成在所述有效区和所述一次性区之间的边界上。
16.权利要求6的多层膜，其中分离线形成在所述有效区和所述一次性区之间的边界上。
17.权利要求1的多层膜，其中该分离片比该材料基片大。
18.权利要求2的多层膜，其中该分离片比该材料基片大。
19.权利要求17的多层膜，其中切口的至少一部分形成在该分离片中未叠置在该材料基片上的一部分上。
20.权利要求18的多层膜，其中切口的至少一部分形成在至少一个分离片中未叠置在该材料基片上的一部分上。
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