[发明专利]负性抗蚀剂组合物和形成图案的方法

权利要求书

1.一种化学放大的负性抗蚀剂组合物，其包括(A)基础聚合物，(B)产酸剂，以及(C)作为碱性组分的含氮化合物，

所述基础聚合物为(i)包含通式(1)和(2)的重复单元的聚合物：

其中A和B各自为单键或可以用醚键隔开的C₁-C₁₀的亚烷基，R¹各自独立地为氢或甲基，R^x各自独立地为氢或C₁-C₆的烷基，X为氢、直链、支链或环状的C₁-C₂₀的烷基、C₂-C₂₀的烷氧基烷基、C₂-C₂₀的烷基硫基烷基、卤素、硝基、氰基、亚磺酰基或磺酰基，Y为C₁-C₂₀的烷基或C₂-C₂₀的酰基，a和c各自为0到4的整数，b为1到5的整数，d为0到5的整数，P和Q各自为0或1，s和t各自为0到2的整数，所述聚合物与能够在酸的存在下与式(1)通过亲电反应形成交联的交联剂结合，

(ii)所述聚合物进一步包括能够在酸的存在下与式(1)通过亲电反应形成交联的重复单元，或者

(iii)所述聚合物进一步包括具有交联功能的重复单元，其与能够在酸的存在下与式(1)通过亲电反应形成交联的交联剂结合，

至少一部分所述基础聚合物具有通式(3)的烷基硫基：

其中R³为直链、支链或环状的C₁-C₂₀的烷基、C₂-C₂₀的羟烷基、C₂-C₂₀的烷氧基烷基、C₁-C₂₀的巯烷基或C₂-C₂₀的烷基硫基烷基，

所述基础聚合物具有1000到2500的重均分子量。

2.权利要求1的负性抗蚀剂组合物，其中具有引入其中的式(3)烷基硫基的基础聚合物由包含具有通式(1a)和(2a)的单体的单体混合物的自由基聚合获得：

其中A、B、R¹、R^x、X、Y、a、c、b、d、P、Q、s和t如以上所定义，同时使用通式(20)的化合物作为链转移剂：

HS-R³                            (20)

其中R³如上所定义。

3.权利要求1的负性抗蚀剂组合物，其中在通式(2)中，X为至少一种选自由氢原子、氯原子、溴原子、碘原子、甲基和乙基组成的组的取代基，且Y为至少一种选自由甲基和乙基组成的组的取代基。

4.权利要求1的负性抗蚀剂组合物，其中所述基础聚合物进一步包括通式(4)或(5)的重复单元：

其中R⁴和R⁵各自独立地为氢，羟基，直链、支链或环状的C₁-C₂₀的烷氧基，直链、支链或环状的C₁-C₂₀的酰氧基，任选地羟基取代的、直链、支链或环状的C₁-C₂₀的烷基，或者是卤素，p为0或1到6的整数，且q为0或1到4的整数。

5.权利要求1的负性抗蚀剂组合物，其中所述产酸剂(B)包括至少一种具有通式(6)的化合物：

其中R⁶、R⁷和R⁸各自独立地为氢或直链或支链的C₁-C₄的烷基，R⁹、R¹⁰和R¹¹各自独立地为直链或支链的C₃-C₁₀的烷基。