[发明专利]含有聚硅氮烷的涂布组合物有效

专利信息
申请号: 201110006067.2 申请日: 2011-01-06
公开(公告)号: CN102153951A 公开(公告)日: 2011-08-17
发明(设计)人: 林昌伸 申请(专利权)人: AZ电子材料(日本)株式会社
主分类号: C09D183/16 分类号: C09D183/16;B05D7/24;B05D3/02;C01B33/113;H01L21/312;H01L21/316
代理公司: 北京三幸商标专利事务所 11216 代理人: 刘激扬
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 含有 聚硅氮烷 组合
【权利要求书】:

1.一种涂布组合物,该涂布组合物含有全氢聚硅氮烷和溶剂,其特征在于:前述全氢聚硅氮烷的分子量分布曲线分别在分子量800~2,500的范围和分子量3,000~8,000的范围内具有极大值,重均分子量Mw和数均分子量Mn的比Mw/Mn是6~12。

2.根据权利要求1所记载的涂布组合物,其中全氢聚硅氮烷的含有率以涂布组合物的全部重量为基准,是10~25重量%。

3.根据权利要求1或2所记载的涂布组合物,其中前述全氢聚硅氮烷是重均分子量为800~2,500的低分子量聚硅氮烷和重均分子量为3,000~8,000的高分子量聚硅氮烷的混合物。

4.根据权利要求3所记载的涂布组合物,其中前述低分子量聚硅氮烷和高分子量聚硅氮烷的重量比是3∶7~6∶4。

5.一种硅质膜的形成方法,特征在于,包括:

在具有凹凸的基板表面上涂布一种涂布组合物的涂布工序,该涂布组合物含有全氢聚硅氮烷和溶剂,且前述全氢聚硅氮烷的分子量分布曲线分别在分子量800~2,500的范围和分子量3,000~8,000的范围内具有极大值,重均分子量Mw和数均分子量Mn的比Mw/Mn是6~12;

以及将涂布后的基板在小于1000℃的氧气氛或包含水蒸气的氧化气氛中进行加热处理,将前述组合物转变为二氧化硅膜的固化工序。

6.根据权利要求5所记载的硅质膜的形成方法,该方法进一步包含在涂布工序和固化工序之间,将涂布后的基板在50℃~400℃加热10秒钟~30分钟的预烘焙工序。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于AZ电子材料(日本)株式会社,未经AZ电子材料(日本)株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201110006067.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top