[发明专利]基于减薄工艺的热式风速风向传感器及其制备方法无效

专利信息
申请号: 201110008120.2 申请日: 2011-01-17
公开(公告)号: CN102169126A 公开(公告)日: 2011-08-31
发明(设计)人: 董自强;黄庆安;秦明 申请(专利权)人: 东南大学
主分类号: G01P5/10 分类号: G01P5/10;G01P13/02;H01L21/822
代理公司: 南京天翼专利代理有限责任公司 32112 代理人: 汤志武
地址: 211109 江苏*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 基于 工艺 风速 风向 传感器 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种基于减薄工艺的热式风速风向传感器,其特征在于,包括减薄硅芯片(21),所述减薄硅芯片(21)的背面通过导热胶(22)连接有陶瓷基板(23),在减薄硅芯片(21)的正面设有N阱(7),在N阱(7)上设有氧化层(11),在N阱(7)的中部设有4个扩散电阻加热元件(9)及4个热传感测温元件(15),4个热传感测温元件(15)为热电偶测温元件且分布于4个扩散电阻加热元件(9)的四周,在氧化层(11)的边缘区域设有电引出焊盘(14),4个扩散电阻加热元件(9)的电引出焊盘(18)及4个热传感测温元件(15)的电引出焊盘(13)分别通过金属引线与电引出焊盘(14)连接,在4个扩散电阻加热元件(9)和4个热传感测温元件(15)之间设置有热隔离槽(16),所述热隔离槽(16)深及减薄硅芯片(21)衬底中。

2.一种权利要求1所述的基于减薄工艺的热式风速风向传感器的制备方法,其特征在于:

第一步,硅芯片的制备

步骤1,在硅芯片(1)表面热生长第一热氧化层(2);

步骤2,在第一热氧化层(2)上化学气相淀积氮化硅层(3);

步骤3,利用RIE技术对硅芯片(1)进行刻蚀,定义有源区(4);

步骤4,化学气相淀积第二氧化层(5);

步骤5,利用CMP技术对硅芯片(1)进行抛光处理;

步骤6,湿法腐蚀去除氮化硅层(3),制备完成场氧化层(6);

步骤7,磷离子注入,制备N阱(7);

步骤8,热生长栅氧化层(8);

步骤9,硼离子注入,制备加热元件(9)和热传感测温元件(15)的一个端(10);

步骤10,化学气相淀积第三氧化层,其中第一热氧化层(2)、第二氧化层(5)和第三氧化层合并为氧化层(11);

步骤11,利用干法刻蚀工艺制备热传感测温元件(15)上通孔(12)和加热元件(9)上通孔(17);

步骤12,利用溅射工艺制备电引出用铝焊盘(14)和热传感测温元件(15)的另一个端(13)以及加热元件(9)电引出焊盘(18);

步骤13,利用干法刻蚀工艺在加热元件(9)和热传感测温元件(15)之间制备热隔离槽(16);

第二步,减薄和封装

步骤1,在硅芯片(1)的正面悬涂石蜡层(19);

步骤2,在80℃环境温度下通过石蜡层(19)在硅芯片(1)的正面粘附载玻片(20);

步骤3,利用减薄工艺对硅芯片(1)的衬底进行减薄直至衬底厚度为80微米到100微米范围,得到减薄硅芯片(21);

步骤4,在减薄硅芯片(21)背面悬涂导热胶(22),并贴敷陶瓷基板(23),在环境温度100℃下对导热胶进行固化;

步骤5,在80℃环境温度下去除载玻片(20)和石蜡层(19);

第三步,划片,完成风速风向传感器的制备。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东南大学,未经东南大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201110008120.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top