[发明专利]微光刻投射系统

权利要求书

1.一种微光刻投射系统，用于将物体平面中的物体投射成像平面中的图像，所述微光刻投射系统包括：

第一镜(S1)、第二镜(S2)、第三镜(S3)、第四镜(S4)、第五镜(S5)、第六镜(S6)、第七镜(S7)和第八镜(S8)，这些镜位于从所述物体平面到所述像平面的光路中，其中，

所述投射系统具有清楚的出射光瞳，并且

其中，所述第一镜、所述第二镜、所述第三镜、所述第四镜、所述第五镜、所述第六镜、所述第七镜、和所述第八镜(S1、S2、S3、S4、S5、S6、S7、S8)中的每一个都具有占用空间(B1、B2、B3、B4、B5、B6、B7、B8)，并且其中，所有占用空间在与所述投射系统的对称轴(12)平行的方向上可延伸，而不会与所述投射系统的其它镜的任何占用空间互相交叉，且不会与在所述投射系统中从所述物体平面到所述像平面传播的光的光路互相交叉。

2.根据权利要求1所述的微光刻投射系统，其中，至少所述第一镜或至少所述第二镜为平面镜。

3.根据权利要求1所述的微光刻投射系统，其中，至少所述第一镜(S1)为凹面镜，并且所述第二镜(S2)为平面镜，或者所述第一镜(S1)为平面镜，并且至少所述第二镜(S2)为凹面镜。

4.根据权利要求1所述的微光刻投射系统，其中，从所述物体平面到所述像平面的所述光路中的所述第一镜(S1)具有第一半径(R1)，并且从所述物体平面到所述像平面的所述光路中的所述第二镜(S2)具有第二半径(R2)，并且所述第一半径与所述第二半径的比值在的范围内。

5.根据权利要求1所述的微光刻投射系统，其中，所述图像侧孔径NA≥0.3，优选地≥0.35，更优选地≥0.4，更优选地≥0.45，更优选地≥0.5。

6.根据权利要求1所述的微光刻投射系统，其中，所述投射系统的至少所述第一镜(S1)、所述第二镜(S2)、所述第三镜(S3)、所述第四镜(S4)、所述第五镜(S5)、和所述第六镜(S6)位于以光轴(HA)为中心的布置中；

这些镜(S1、S2、S3、S4、S5、S6)中的每一个均具有占用区域，在光路(10000)中被引导得穿过所述投射系统的光束入射到所述占用区域上；

并且所述第一镜、所述第二镜、所述第三镜、所述第四镜、所述第五镜、和所述第六镜(S1、S2、S3、S4、S5、S6)中的每一个都具有占用空间(B1、B2、B3、B4、B5、B6)，从相应镜的占用区域中的中心点(AUF)开始平行于所述光轴(HA)来测量，所述占用空间(B1、B2、B3、B4、B5、B6)具有深度(T)，该深度大于所述镜的直径值的1/3，并且不同镜的所述占用空间彼此不穿过。

7.根据权利要求6所述的微光刻投射系统，其中，所述第七镜(S7)以所述光轴(HA)为中心定位，并且所述第七镜(S7)具有占用空间(B7)，从所述相应镜的占用区域中的中心点(AUF)开始平行于所述光轴来测量，所述占用空间(B7)具有深度(T)，该深度大于所述第七镜(S7)的直径值的1/3。

8.根据权利要求6或7所述的微光刻投射系统，其中，所述第八镜(S8)以所述光轴(HA)为中心定位，并且所述第八镜(S8)具有占用空间(B8)，从所述相应镜的占用区域中的中心点(AUF)开始平行于所述光轴来测量，所述占用空间(B8)具有深度(T)，该深度大于所述第八镜(S8)的直径值的1/3。

9.根据权利要求1所述的微光刻投射系统，其中，所述投射系统的至少所述第一镜(S1)、所述第二镜(S2)、所述第三镜(S3)、所述第四镜(S4)、所述第五镜(S5)、和所述第六镜(S6)位于以光轴(HA)为中心的布置中；

这些镜(S1、S2、S3、S4、S5、S6)中的每一个均具有占用区域，在光路(10000)中被引导得穿过所述投射系统的光束入射到所述占用区域上；

并且所述第一镜、所述第二镜、所述第三镜、所述第四镜、所述第五镜、和所述第六镜(S1、S2、S3、S4、S5、S6)中的每一个都具有占用空间(B1、B2、B3、B4、B5、B6)，从所述相应镜的占用区域中的中心点(AUF)开始平行于所述光轴(HA)来测量，所述占用空间(B1、B2、B3、B4、B5、B6)具有深度(T)，所述深度大于50mm。