[发明专利]半导体激光阵列快慢轴光束重排装置与制造方法无效
申请号: | 201110020263.5 | 申请日: | 2011-01-18 |
公开(公告)号: | CN102129127A | 公开(公告)日: | 2011-07-20 |
发明(设计)人: | 王智勇;刘友强;曹银花;秦文斌 | 申请(专利权)人: | 山西飞虹激光科技有限公司 |
主分类号: | G02B27/09 | 分类号: | G02B27/09 |
代理公司: | 北京思海天达知识产权代理有限公司 11203 | 代理人: | 魏聿珠 |
地址: | 041600*** | 国省代码: | 山西;14 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 半导体 激光 阵列 快慢 光束 重排 装置 制造 方法 | ||
1.半导体激光阵列快慢轴光束重排装置,包括有半导体激光一维阵列(1)、快慢轴准直微透镜阵列(2)、慢轴扩束准直柱面镜组(6)和球面聚焦透镜(7);其特征在于还包括有整形光学元件(4)和整形光学元件(5);从半导体激光一维阵列(1)发出的激光,经过快慢轴准直微透镜阵列(2)对激光光束的快轴和慢轴都进行准直以后,入射到整形光学元件(4),激光经过整形光学元件(4)后,激光光束以不同入射角入射到平行平板产生了不同的偏移,形成阶梯型分布传播,呈阶梯型分布传播的激光光束经过整形光学元件(5)后,形成沿竖直方向排列的光束,沿竖直方向排列的光束在慢轴方向尺寸小,发散角大,经过慢轴扩束准直柱面镜组(6)后,快轴和慢轴的尺寸和发散角接近相等,光斑形状为快慢轴均匀分布的矩形光斑,最后经过球面聚焦透镜(7)聚焦成均匀的点光斑。
2.半导体激光阵列快慢轴光束重排装置,包括有半导体激光二维密排型阵列(8)、快慢轴准直微透镜阵列(2)、用于压缩快轴尺寸的柱面镜组(9)、慢轴扩束准直柱面镜组(6)和球面聚焦透镜(7);其特征在于:还包括有整形光学元件4和整形光学元件5;从半导体激光二维密排型阵列(8)发出的激光,先经过快慢轴准直微透镜阵列(2)对激光光束的快轴和慢轴都进行准直,再经过用于压缩快轴尺寸的柱面镜组(9),入射到整形光学元件(4),激光经过整形光学元件(4)后,激光光束产生了不同的偏移,形成阶梯型分布传播,呈阶梯型分布传播的激光光束经过整形光学元件(5)后,形成沿竖直方向排列的光束,沿竖直方向排列的光束在慢轴方向尺寸小,发散角大,经过慢轴扩束准直柱面镜组(6)后,快轴和慢轴的尺寸和发散角接近相等,光斑形状为快慢轴均匀分布的矩形光斑,最后经过球面聚焦透镜7聚焦成均匀的点光斑。
3.半导体激光阵列快慢轴光束重排装置,包括有半导体激光二维非密排型阵列(11)、快慢轴准直微透镜阵列(2)、慢轴扩束准直柱面镜组(6)和球面聚焦透镜(7);其特征在于:还包括有整形光学元件(4)和n个整形光学元件5,n为二维非密排型阵列bar条数;从半导体激光二维非密排型阵列(11)发出的激光,先经过快慢轴准直微透镜阵列(2)对激光光束的快轴和慢轴都进行准直,入射到整形光学元件(4),激光经过整形光学元件(4)后,激光光束产生了不同的偏移,形成阶梯型分布传播,呈阶梯型分布传播的激光光束经过n个上下叠放的整形光学元件(5)后,其中n为二维非密排型阵列bar条数,形成沿竖直方向排列的光束,沿竖直方向排列的光束在慢轴方向尺寸小,发散角大,经过慢轴扩束准直柱面镜组(6)后,快轴和慢轴的尺寸和发散角接近相等,光斑形状为快慢轴均匀分布的矩形光斑,最后经过球面聚焦透镜(7)聚焦成均匀的点光斑。
4.根据权利要求1、权利要求2或权利要求3所述的半导体激光阵列快慢轴光束重排装置,其特征在于:所述的整形光学元件(4)前后侧面为光滑的抛光平面,厚度为半导体激光慢轴方向光束的宽度K,上下底面为平面毛面或者是开有限位槽的毛面,左右侧面分别是激光的入射面和出射面,在左右侧面上,沿前后侧面厚度方向分别加工有N个小面,其中N为激光束在慢轴方向被分割的份数,由公式计算得出,其中,BPPs为慢轴的光参数乘积,BPPf为快轴的光参数乘积,N个小面的宽度相同,都为K/N,N个小面与底面的角度不同:N为偶数时,N个小面与底面的角度分别为α1,α2,…,αN/2,π-αN/2,…,π-α2,π-α1;N为奇数时,N个小面与侧面的角度分别为α1,α2,…,α(N-1)/2,90°,π-α(N-1)/2,…,π-α2,π-α1;沿前后侧面厚度方向,左右侧面上的N个对应的小面相互平行,且对应的小面之间的间距相等;角度值是依据平行平板的折射原理,对应不同的偏移量计算得出。
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