[发明专利]一种纳米硅/晶体硅异质结光伏电池无效
申请号: | 201110020790.6 | 申请日: | 2011-01-18 |
公开(公告)号: | CN102110734A | 公开(公告)日: | 2011-06-29 |
发明(设计)人: | 杨宏;帅争峰;王鹤 | 申请(专利权)人: | 西安交通大学 |
主分类号: | H01L31/06 | 分类号: | H01L31/06;H01L31/0352;H01L31/18 |
代理公司: | 西安通大专利代理有限责任公司 61200 | 代理人: | 陆万寿 |
地址: | 710049 *** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 纳米 晶体 硅异质结光伏 电池 | ||
1.一种纳米硅/晶体硅异质结光伏电池,其特征在于:电池的叠层顺序从上至下依次设置为:正面银电极、正面TCO导电薄膜、p型重掺杂纳米硅层即p+层、p型轻掺杂纳米硅层即p层、p型轻扩散晶体硅层即p-层、n型晶体硅层、本征纳米硅层即i层、n型纳米硅层、背面TCO导电薄膜、背面银电极;或者是正面银电极、正面TCO导电薄膜、n型重掺杂纳米硅层即n+层、n型轻掺杂纳米硅层即n层、n型轻扩散晶体硅层即n-层、p型晶体硅层、本征纳米硅层即i层、p型纳米硅层、背面TCO导电薄膜、背面银电极,其中掺杂浓度:p+层>p层>p-层,n+层>n层>n-层。
2.根据权利要求1所述的纳米硅/晶体硅异质结光伏电池,其特征在于:p型重掺杂纳米硅层的禁带宽度为1.95ev~1.99ev。
3.根据权利要求1所述的纳米硅/晶体硅异质结光伏电池,其特征在于:p型轻掺杂纳米硅层为1.97ev到1.75ev的渐变带隙。
4.根据权利要求1所述的纳米硅/晶体硅异质结光伏电池,其特征在于:所述的晶体硅衬底是CZ单晶硅衬底、FZ单晶硅衬底或多晶硅衬底,表面具有绒面结构。
5.根据权利要求1所述的纳米硅/晶体硅异质结光伏电池,其特征在于:p型或n型轻掺杂纳米硅层和轻扩散晶体硅层的厚度均为9~11纳米。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的