[发明专利]耐高压的结型场效应管有效
申请号: | 201110021192.0 | 申请日: | 2011-01-19 |
公开(公告)号: | CN102610656A | 公开(公告)日: | 2012-07-25 |
发明(设计)人: | 张帅;董科 | 申请(专利权)人: | 上海华虹NEC电子有限公司 |
主分类号: | H01L29/80 | 分类号: | H01L29/80;H01L29/40 |
代理公司: | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人: | 丁纪铁 |
地址: | 201206 上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 高压 场效应 | ||
1.一种耐高压的结型场效应管,衬底中具有阱一,阱一的掺杂类型与衬底相反;在阱一的表面具有隔离结构一、隔离结构二、隔离结构三、隔离结构四;在阱一中且在隔离结构二和隔离结构三之间具有阱二,阱二的掺杂类型与阱一相反;在阱一中且在隔离结构三和隔离结构四之间具有阱三,阱三的掺杂类型与阱一相同但掺杂浓度更大;在阱一的表面且在隔离结构一和隔离结构二之间具有阱四,阱四的掺杂类型与阱一相同但掺杂浓度更大;在阱二的表面具有阱五,阱五的掺杂类型与阱二相同但掺杂浓度更大;在阱三的表面具有阱六,阱六的掺杂类型与阱三相同但掺杂浓度更大;阱三、阱四、阱五分别作为场效应管的源极、栅极和漏极;其特征是,所述结型场效应管在硅片表面还具有场极板一、场极板二和场极板三;场极板一的一端在阱二之上且紧邻栅极,另一端在隔离结构三之上;场极板二的一端在隔离结构三之上,另一端在漏极之上;场极板三的一端在漏极之上,另一端在隔离结构四之上。
2.根据权利要求1所述的耐高压的结型场效应管,其特征是,所述隔离结构一、隔离结构二、隔离结构三、隔离结构四均为氧化硅。
3.根据权利要求1所述的耐高压的结型场效应管,其特征是,所述场极板一、场极板二、场极板三均为多晶硅。
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