[发明专利]微镜器件的筛选方法、微镜器件筛选装置以及无掩膜曝光装置

说明书

技术领域

本发明涉及在显示设备用面板或半导体掩膜上、复制烧制图案的无掩膜曝光装置中配备的微镜器件的筛选方法及微镜器件筛选装置，特别是涉及微镜器件的微镜的平坦性的检测。

背景技术

通过把描画在掩膜上的电路图案印制在基板上来制造液晶或有机EL(电致发光)等面板。作为工序，在玻璃基板上堆积薄膜之后涂敷光刻胶，将电路图案曝光，进行显影。接着经由光刻胶图案对底层的薄膜进行蚀刻，形成薄膜图案。多次重复该工序来层叠薄膜图案，由此生成能够控制各像素的明暗的电路图案。

为了进行彩色显示，将彩色滤波器制作在与电路图案的玻璃基板不同的玻璃基板上。首先，最初形成划分红、绿、蓝的区域的被称为黑阵(black matrix)的遮光带。接着涂敷包含红色颜料的光刻胶，进行曝光、显影，由此作成红色的彩色滤波器。

绿色、蓝色也重复同样的工序。最后通过薄膜层叠、光刻胶涂敷、曝光、显影、刻蚀形成公共的透明电极图案，由此制造红绿蓝(RGB)的彩色滤波器。在液晶面板中，通过形成了电路图案的玻璃基板和彩色滤波器包围液晶，在照明侧设置光源和偏振板，在出射侧设置与光源垂直的方向的偏振板，液晶显示面板完成。

如上述那样，在制造工序中，频繁使用在光刻胶上印制图案的曝光。在曝光中使用掩膜，但是在开发新的显示装置时掩膜的交货期成为短期开发的瓶颈。另外，在制造大型电视机用面板时，如果在成为废弃的多余的空间中根据市场情况分割成小型面板，能够有效使用资源。

如果是不使用掩膜的无掩膜曝光装置，则能够应对这些。例如在美国专利第6493867号说明书(专利文献1)中公开了一种无掩膜曝光装置。

在无掩膜曝光装置中，通过微镜器件(以下称为MMD)代替掩膜来形成图案。通过晶体管来控制二维排列的镜组中的每一个反射镜的倾角，由此进行反射光角度的切换。

MMD经由投影透镜在基板上成像，形成透过投影透镜的反射角的像素为白色、无法透过的发射角的像素为黑色的图案。与配备有基板的平台的移动连动控制MMD的各微镜的倾角，由此在基板上复制图案。相对平台移动方向倾斜1/M弧度来设置MMD，由此能够以像素间距的1/M的分辨率来控制图案复制位置。

另外，关于掩膜的复制图案像的仿真，例如在Y.Yoshitake et al、“Multispotscanning exposure system for excimer laser stepper”、SPIE、1463、(1991)678(非专利文献1)中进行了公开。

【专利文献1】美国专利第6493867号说明书

【非专利文献1】Y.Yoshitake et al、“Multispot scanning exposure system forexcimer laser stepper”、SPIE、1463、(1991)678

发明内容

在上述的无掩膜曝光装置中，通过将与像素对应的微镜图像复制在基板上形成图案。在此，首先使用图11及图12来说明MMD的功能。图11是表示MMD的接通(ON)状态的截面图，图12是表示MMD的微镜的断开(OFF)状态的截面图。

如图11所示那样，微镜21被固定在轭板(yoke)22上，通过电极24的静电扭转铰链23，轭板22发生倾斜，结果微镜21倾斜角度α。

当使照明光110以相对基板面26的法线方向2α的角度入射时，反射光111沿MMD的基板面26的法线方向反射。

另一方面，如果接通电极25时，则如图12所示那样，微镜21向与图11相反方向倾斜。结果，反射光111在相对于MMD的基板面26的法线方向为4α的方向上进行反射。

即，在电极25断开时的微镜21的倾角α为12度时，当把电极25接通时，在相对于MMD的基板面26的法线方向48度的方向上进行反射。通过未图示的遮光带对断开状态的反射光进行遮光。

通过图13对无掩膜曝光装置的结构进行说明。图13是表示无掩膜曝光装置的结构的结构图。

在图13中，使从光源11出射的照明光110折返，通过反射镜12以预定的角度照射在MMD2上。MMD2反射的光通过投影透镜3，经由投影透镜光孔31在基板5上形成MMD2的投影图像4。将基板5装配在平台6上，通过平台6的移动，使投影图像4在基板5的整个面上多重曝光。

通过图14对多重曝光的方法进行说明。图14是用于说明通过MMD的各微镜进行的多重曝光方法的图。