[发明专利]测定方法

说明书

技术领域

本发明涉及用于评价对象物的润湿性的测定方法。

背景技术

例如，在对高分子薄膜或树脂涂敷粘接剂、涂装剂、涂料等的工序中，进行用于提高其表面(界面)的“润湿性”的预处理。一般，这样的处理被称作“表面改性处理”等。该表面改性处理例如通过特定环境的等离子体处理或电晕处理等来实现。

然而，从质量管理方面来看，重要的是，评价这样的表面改性处理将润湿性改善了多少，并根据该评价结果，适宜地修改相关联的工序的参数(设定值)。

过去，作为评价这样的润湿性的方法，采用了称作液滴法的计测方法。在该液滴法中，在对象物的表面滴下规定量的液体(典型的为纯净水)，并测定该液滴的切线和对象物表面之间的角度(也称为“接触角”或“可湿角”)。该测定出的接触角与滴下的液体的表面张力的大小相关，该接触角的大小表示对象物的润湿性。

例如，专利文献1(日本实用新型注册第3150529号公报)公开了用于利用这样的液滴法的原理来测定接触角的接触角测定装置。

专利文献：

专利文献1：日本实用新型注册第3150529号公报。

在利用上述专利文献1所公开的液滴法的接触角测定装置中，不能在线评价润湿性。即，在液滴法中，由于需要对对象物滴下液体，因此原理上是破坏性检查。因此，只能对线上流动的对象物进行抽样检查，不能对所有对象物进行检查。

另外，在液滴法中，由于测定环境(尤其振动)会对测定结果有大影响，因此需要准备满足用于设置测定装置的规定条件的环境。而且，在液滴法中，存在原理上难以实现小型化的问题、无法提高接触角在相对小的范围(即，润湿性高的状态)内时的测定精度的问题。

发明内容

因此，本发明是为了解决这些问题而形成的，其目的在于提供一种能够在高速且不破坏的前提下评价对象物表面的润湿性的测定方法。

本发明一技术方案的测定方法包括：对对象物照射紫外线的工序；对照射了紫外线的上述对象物的荧光强度进行测定的工序；按照根据所测定的荧光强度预先取得的对应关系，输出用于表示上述对象物的表面的润湿性的值的工序。

优选地，输出用于表示上述对象物的表面的润湿性的值的工序包括：根据预先取得的对应关系，计算出与测定出的荧光强度相对应的接触角的工序；输出所计算出的接触角的工序。

更优选地，预先取得的对应关系是按照对象物的种类取得的。优选地，本测定方法还包括对对象物进行表面改性处理的工序，输出用于表示上述对象物的表面的润湿性的值的工序包括：基于在进行表面改性处理前检测在对象物上产生的荧光所得到的结果与在进行表面改性处理后检测在对象物上产生的荧光所得到的结果之差，计算出用于表示对象物表面的润湿性的值的工序。

更优选地，表面改性处理包括在对象物的表面上产生羧基和羰基中的至少一种官能团的处理。

本发明的另一技术方案的测定方法包括：对对象物照射紫外线的工序；对照射了紫外线的对象物的荧光强度进行测定的工序；输出所测定的荧光强度来作为用于表示上述对象物的表面的润湿性的值的工序。

根据本发明的技术方案，能够高速且非破坏地评价对象物表面的润湿性。

附图说明

图1是用于说明本发明实施方式的测定原理的示意图。

图2是用于等离子体处理的装置的示意图。

图3是表示就等离子体处理的实验结果进行绘制而得的图表的图。

图4A～4C是用于说明液滴法中的接触角的图。

图5是包括电晕处理装置的涂覆工序(coating process)的示意图。

图6是本发明实施方式的测定装置的示意性的外观图。

图7是表示本发明实施方式的测定装置的光学结构的示意图。

图8是表示本发明实施方式的测定装置的电性结构的示意图。

图9是表示本发明实施方式的第一变形例的测定装置的电性结构的示意图。

图10是表示本发明实施方式的第二变形例的测定装置的电性结构的示意图。

图11是表示本发明实施方式的第三变形例的测定装置的光学结构的示意图。

图12是表示本发明实施方式的第四变形例的测定装置的光学结构的示意图。

图13是表示图12所示的紫外线灯(金卤灯：metal halide lamp)的发光光谱的一例的图。

图14是表示图12所示的波长滤波器的特性的一例的图。

图15是表示本发明实施方式的测定装置的控制结构的示意图。

图16是表示将图3所示的实验结果绘制成接触角和荧光强度之间的关系的图表的图。