[发明专利]波像差测量装置及其测量方法有效
申请号: | 201110023589.3 | 申请日: | 2011-01-21 |
公开(公告)号: | CN102608870A | 公开(公告)日: | 2012-07-25 |
发明(设计)人: | 陆海亮;王帆 | 申请(专利权)人: | 上海微电子装备有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G01M11/02 |
代理公司: | 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 | 代理人: | 王光辉 |
地址: | 201203 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 波像差 测量 装置 及其 测量方法 | ||
1.一种波像差测量装置,其特征在于,包括:
照明系统,产生照明光束;
物面小孔,包括至少两个物面小孔标记,所述至少两个物面小孔标记沿第一方向排列,所述物面小孔标记包括两个物面小孔子标记,所述两个物面小孔子标记沿第二方向排列,所述第一方向和所述第二方向垂直,所述两个物面小孔子标记的光栅方向分别沿X方向和沿Y方向,所述照明光束照射到所述物面小孔形成测量光束;
投影物镜;
像面剪切光栅,所述测量光束通过所述投影物镜后入射到所述像面剪切光栅,形成剪切干涉图案;
二维阵列光敏元件,用于接收所述剪切干涉图案。
2.根据权利要求1所述的波像差测量装置,其特征在于,所述物面小孔位于物面小孔板上,所述物面小孔板与掩模台连接,所述掩模台带动所述物面小孔板移动。
3.根据权利要求2所述的波像差测量装置,其特征在于,所述像面剪切光栅位于像面剪切光栅板上,所述像面剪切光栅板与工件台连接,所述工件台带动所述像面剪切光栅板移动。
4.根据权利要求1所述的波像差测量装置,其特征在于,所述像面剪切光栅是棋格状光栅。
5.根据权利要求1所述的波像差测量装置,其特征在于,相邻的所述物面小孔标记中的两个物面小孔子标记的排列方向不同。
6.根据权利要求1所述的波像差测量装置,其特征在于,所述像面剪切光栅包括至少一个像面剪切光栅标记组,所述像面剪切光栅标记组包括至少两个像面剪切光栅标记,所述至少两个像面剪切光栅标记沿第一方向排列,所述至少一个像面剪切光栅标记组沿第二方向排列,所述至少两个像面剪切光栅标记的光栅方向分别沿X方向和沿Y方向。
7.根据权利要求6所述的波像差测量装置,其特征在于,沿第一方向和沿第二方向相邻的所述至少两个像面剪切光栅标记排列方向不同。
8.根据权利要求1所述的波像差测量装置,其特征在于,所述物面小孔标记的间距等于待测视场点间隔。
9.根据权利要求6所述的波像差测量装置,其特征在于,所述物面小孔标记的间距与所述像面剪切光栅标记组的间距的比值等于投影物镜的投影倍率M。
10.根据权利要求6所述的波像差测量装置,其特征在于,所述物面小孔子标记的周期与所述像面剪切光栅标记的周期的比值等于投影物镜的投影倍率M。
11.根据权利要求1所述的波像差测量装置,其特征在于,所述X方向和所述Y方向垂直。
12.根据权利要求1所述的波像差测量装置,其特征在于,所述物面小孔子标记为狭缝光栅。
13.根据权利要求1所述的波像差测量装置,其特征在于,所述像面剪切光栅标记为狭缝光栅。
14.根据权利要求1所述的波像差测量装置,其特征在于,还包括数据处理单元,对所述二维阵列光敏元件接收的信息进行处理,计算出投影物镜波像差。
15.一种使用权利要求1至14之一所述的波像差测量装置的波像差测量方法,其特征在于,包括:
多次改变所述物面小孔和所述像面剪切光栅的相对位置,获得两个方向上的多个剪切干涉图案;
所述二维阵列光敏元件接收所述多个剪切干涉图案;
根据所述多个剪切干涉图案,计算所述投影物镜的波像差。
16.根据权利要求15所述的波像差测量装置,其特征在于,沿与所述物面小孔子标记的光栅方向和所述像面剪切光栅标记的光栅方向成45°的方向改变所述物面小孔和所述像面剪切光栅的相对位置。
17.根据权利要求15所述的波像差测量装置,其特征在于,沿与所述物面小孔子标记的光栅方向和所述像面剪切光栅标记的光栅方向成0°或者90°的方向改变所述物面小孔和所述像面剪切光栅的相对位置。
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