[发明专利]一种基于差分技术的消除成像器件阈值偏差影响的方法

权利要求书

1.一种基于差分技术的消除成像器件阈值偏差影响的方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：

步骤10：建立在不同初始阈值电压和不同差分参量下反应成像器件各个实际光强值的矩阵表，所述成像器件包括由多个像素组成的成像器件阵列，所述每个像素包括参考单元和成像单元；

步骤20：对成像器件中的参考单元和成像单元进行擦除得到两个相同的初始阈值电压，并用电学量f(Vt)表征参考单元的初始阈值电压；

步骤30：对所述成像单元进行曝光编程操作得到编程后的阈值电压，并用电学量h(Vt)表征编程后的阈值电压，从而得到成像单元的差分参量g(h)= f(Vt)- h(Vt)； 

步骤40：根据参考单元的电学量f(Vt)和成像单元的差分参量g(h)再通过查找矩阵表从而得到成像单元感受的实际光强值，并将该实际光强值作为参考单元由于其不参与曝光编程操作而造成实测丢失的光强值。

2.根据权利要求1所述的基于差分技术的消除成像器件阈值偏差影响的方法，其特征在于，所述步骤10中参考单元和成像单元的位置是相邻的且位于成像器件阵列的同一行或者同一列上，所述参考单元用于进行复位操作和读取操作。

3.根据权利要求1所述的基于差分技术的消除成像器件阈值偏差影响的方法，其特征在于，所述步骤10中建立矩阵表的过程包括：

步骤101：在不对成像单元进行曝光编程的情况下，对N个不同的初始阈值电压下的成像单元进行读取测试，并用参量f(Vt)表征非曝光编程条件下的初始阈值电压，其中N＞1；

步骤102：对各个f(Vt)下的成像器件进行曝光读取测试，并用差分参量g(h)表征曝光编程条件下成像器件的光强值，所述差分参量g(h)为关于光强和初始阈值电压的函数，用于反映光强的分布；

步骤103：建立分别以f(Vt)和g(h)为横纵指标的矩阵表，所述矩阵表用于反映不同初始阈值电压和不同差分参量下各个实际光强的值。

4.根据权利要求3所述的基于差分技术的消除成像器件阈值偏差影响的方法，其特征在于，所述步骤101具体包括：对成像器件进行擦除得到擦除后的阈值分布曲线，根据擦除后的阈值分布曲线，将阈值分布区间平均分为N份，再取每一份的中点对应的阈值电压，从而得到N个阈值电压点，然后在不对成像单元进行曝光编程的情况下，选取参量f(Vt)用于反映所述N个不同的初始阈值电压，其中N＞1。

5.根据权利要求3所述的基于差分技术的消除成像器件阈值偏差影响的方法，其特征在于，所述步骤102具体包括：在成像器件正常工作的光强分布范围内平均地取M个不同的光强值，然后选取参量g(h)用于反映所述M个不同的光强值与参考单元的差分特性，其中M＞1。