[发明专利]用于二次电池的电极接线片的结合结构和二次电池有效

专利信息
申请号: 201110026674.5 申请日: 2011-01-20
公开(公告)号: CN102290551A 公开(公告)日: 2011-12-21
发明(设计)人: 朴圣儿 申请(专利权)人: 三星SDI株式会社
主分类号: H01M2/26 分类号: H01M2/26
代理公司: 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 代理人: 韩明星;李娜娜
地址: 韩国京畿*** 国省代码: 韩国;KR
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 用于 二次 电池 电极 接线 结合 结构
【说明书】:

本申请要求于2010年6月17在韩国知识产权局提交的第10-2010-0057672号韩国专利申请的优先权和权益,该申请的全部内容通过引用包含于此。

技术领域

本技术涉及一种用于二次电池的电极接线片的结合结构和一种具有该结合结构的二次电池。

背景技术

二次电池是将电反应产生的化学能转换为电能的装置。与一次电池不同,二次电池是可充电的并具有高的电压和电流密度。因此,二次电池广泛地用在诸如便携式终端的电子设备中。

在这些二次电池中,锂二次电池基本上具有其中电极板被堆叠从而确保合适的输出系数的结构。

具体来讲,在多个负极板和多个正极板交替堆叠的状态下,正极接线片和负极接线片从相应的正极板和负极板伸出,并且正极接线片或负极接线片也彼此堆叠。

由于正极接线片或负极接线片仅彼此堆叠而又彼此分开,所以通过单独的工艺将它们彼此连接。

典型地使用超声焊接方法来完成正极接线片或负极接线片之间的连接。然而,大容量电池具有大量的正负极接线片,并且在厚度上厚。因此,当仅使用超声焊接方法来连接正极接线片或负极接线片时,可能难以获得合适的紧固力,并且操作效率可能由于长的焊接时间而降低。

为了解决这样的问题,最近已经提出铆接法,在该方法中,通过在正极接线片或负极接线片中形成位于同一线上的通孔将正极接线片或负极接线片彼此连接,然后将单独的铆钉插入到通孔中。

然而,在这样的方法中,典型地必须在每个正极接线片或每个负极接线片中独立地形成通孔。因此,该方法的操作会不方便且会增加操作时间。

发明内容

在一个实施例中,提供了一种用于堆叠式二次电池的电极接线片的结合结构,在该结合结构中,电极接线片彼此连接而无需用于连接电极接线片的单独的加工方法,从而能够减少结合操作的不便利性并且能够提高电极接线片之间的紧固力。

根据本发明的方面,提供了一种用于二次电池的电极接线片的结合结构,该结合结构包括:电极组件,通过堆叠多个电极板形成;接线片部分,通过堆叠从电极组件的电极板的一侧伸出的电极接线片形成;结合构件,围绕接线片部分的外表面,使得接线片部分的电极接线片彼此连接。

结合构件可具有框架结构,该框架结构包括:上覆盖部分,围绕接线片部分的顶表面;侧覆盖部分,从上覆盖部分的两端处向下延伸,以围绕接线片部分的两侧;下覆盖部分,从每一个侧覆盖部分延伸,以围绕接线片部分的底表面。

弯曲部分可形成在每个下覆盖部分的端部处,其中,弯曲部分彼此面对并向上弯曲,并且接线片部分安装在弯曲部分上。

弯曲部分可在下覆盖部分的上表面上与下覆盖部分叠置。

弯曲部分的两个端部可向着侧覆盖部分弯曲。

弯曲部分和下覆盖部分可堆叠为多层结构。

接线片保护构件可形成在结合构件的内表面和接线片部分的表面上。

位于结合构件中的接线片部分可形成为弧形形状。

接线片部分的每个电极接线片可包括在每个电极板上以间隔隔开的正极接线片部分和负极接线片部分,其中,结合构件可包括围绕正极接线片部分的第一结合构件和连接到第一结合构件以围绕负极接线片部分的第二结合构件。

第一结合构件和第二结合构件可通过连接覆盖件彼此连接。

连接覆盖件可具有弯曲部分。

第一结合构件的围绕第一结合构件的正极接线片部分的部分和第二结合构件的围绕第二结合构件的负极接线片部分的部分可具有圆形或弧形形状。

接线片保护构件可形成在第一结合构件和正极接线片部分之间以及第二结合构件和正极接线片部分之间。

根据本发明的方面,提供了一种用于二次电池的接线片的结合构件,该结合结构包括:电极组件,通过堆叠多个电极板形成;正极接线片部分和负极接线片部分,通过堆叠从电极组件的电极板的一侧伸出的正极接线片和负极接线片形成;大电流接线片部分,附于正极接线片部分和负极接线片部分的一端;结合构件,围绕正极接线片部分、负极接线片部分和大电流接线片部分中的至少一个接线片部分的外表面,使得每个接线片部分的电极接线片彼此连接。

接线片保护构件可形成在结合构件的内表面上。

结合构件还可包括围绕正极接线片部分和负极接线片部分的一个或多个外表面的单独的结合构件。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星SDI株式会社,未经三星SDI株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201110026674.5/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top