[发明专利]光学薄膜用粘合剂及其制造方法,及其应用无效
申请号: | 201110029574.8 | 申请日: | 2005-12-01 |
公开(公告)号: | CN102108266A | 公开(公告)日: | 2011-06-29 |
发明(设计)人: | 外山雄祐;佐竹正之;小笠原晶子;诸石裕;中野史子 | 申请(专利权)人: | 日东电工株式会社 |
主分类号: | C09J7/02 | 分类号: | C09J7/02;C09J133/06;C09J133/08;C09J11/06;G02B5/30;G02B1/10 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 朱丹 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光学薄膜 粘合剂 及其 制造 方法 应用 | ||
1.一种光学薄膜用粘合剂层的制造方法,其特征在于,
将下述的光学薄膜用粘合剂涂布于已进行剥离处理的脱模薄片,接着进行加热处理,使光学薄膜用粘合剂进行交联反应形成粘合剂层,
所述光学薄膜用粘合剂中,相对于(甲基)丙烯酸系聚合物(A)100重量份,含有过氧化物(B)0.02~2重量份及异氰酸酯系化合物(C)0.001~2重量份,其中所述(甲基)丙烯酸系聚合物(A)是相对于(甲基)丙烯酸烷基酯(a1)100重量份含有具有羟基的(甲基)丙烯酸系单体(a2)0.01~5重量份作为共聚成分。
2.根据权利要求1所述的光学薄膜用粘合剂层的制造方法,其特征在于,
所述光学薄膜用粘合剂进一步含有硅烷偶合剂。
3.根据权利要求1所述的光学薄膜用粘合剂层的制造方法,其特征在于,
所述粘合剂层的凝胶分率为50-80重量%。
4.根据权利要求1所述的光学薄膜用粘合剂层的制造方法,其特征在于,
所述粘合剂层的厚度为10-40μm。
5.一种光学薄膜用粘合剂层,其特征在于,
是由通过权利要求1所述的制造方法形成的粘合剂层构成。
6.一种粘合型光学薄膜,其特征在于,
在光学薄膜的至少一个面层叠有权利要求5所述的光学薄膜用粘合剂层。
7.根据权利要求6所述的粘合型光学薄膜,其特征在于,
粘合剂层通过中介涂层被层叠在光学薄膜上。
8.根据权利要求7所述的粘合型光学薄膜,其特征在于,
中介涂层含有聚合物。
9.根据权利要求6所述的粘合剂光学薄膜,其特征在于,
光学薄膜与粘合剂层的粘附性在90°剥离粘接力试验中为10N/25mm以上。
10.一种图像显示装置,其特征在于,
至少使用了1片权利要求6~9中任意一项所述的粘合型光学薄膜。
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