[发明专利]激光退火设备中的光学处理装置

权利要求书

1.用于激光退火的光学处理装置，其特征在于包括：

扩束系统，用于对来自一个光源(101)的激光光束进行扩束；

匀化系统，用于使所述扩束系统输出的光束能量均匀；

边缘处理系统，用于得到所需的边缘锐利的光斑；

投影系统，用于将匀化的光斑投射到加工面(108)。

2.根据权利要求1的用于激光退火的光学处理装置，其特征在于：

所述扩束系统包包括一个倒置的开普勒望远镜系统和一个倒置的伽利略望远镜系统中的一种。

3.根据权利要求1的用于激光退火的光学处理装置，其特征在于：

所述匀化系统包含两个前后放置的球面透镜阵列，

在所述两个前后放置的球面透镜阵列之后的第一可替换组件，所述第一可替换组件包括从多面球面透镜或柱面透镜中的一种。

4.根据权利要求3的用于激光退火的光学处理装置，其特征在于：

所述投影系统包含一个转折光路的组件

一个第二可替换组件，

其中第二可替换组件是一个成像系统。

5.根据权利要求4的用于激光退火的光学处理装置，其特征在于：

所述边缘处理系统包含一个可变光阑；

所述成像系统的包括一个起保护和隔离作用的平板透镜。

6.根据权利要求1-5中任何一项的用于激光退火的光学处理装置，其特征在于进一步包括：

一个紫外光源。

7.根据权利要求3的用于激光退火的光学处理装置，其特征在于：

所述匀化系统中的所述两个球面透镜阵列符合预定的距离关系，从而使两者之间的距离大于前一个阵列中单个球面透镜的焦距且小于前一阵列中单个球面透镜的焦距与后一阵列中单个球面透镜的焦距之和。

8.根据权利要求6的用于激光退火的光学处理装置，其特征在于： 

所述紫外光源是经过倍频的NdYAG激光器和准分子激光器中的一种。

9.根据权利要求3所述的用于激光退火的光学处理装置，其特征在于所述第一可替换组件可以进行替换，且其内部透镜之间位置可通过一定机构进行调节。

10.根据权利要求5所述的用于激光退火的光学处理装置，其特征在于

所述第一可替换组件中的调节环节进行统一控制，相互配合；

所述第二可替换组件为一成像系统，且具有较小的像差，同时该组件设计成多套以用来替换，且每套组件具有不同的放大倍率；

所述可变光阑的有效通光口径位于所述第一可替换组件的后焦平面上，且固定不变；

所述第一和第二可替换组件都具有标准的外部接口，以便于和外部基座相连接。