[发明专利]一种纳米制造系统无效
| 申请号： | 201110030665.3 | 申请日： | 2011-01-28 |
| 公开（公告）号： | CN102101642A | 公开（公告）日： | 2011-06-22 |
| 发明（设计）人： | 刘泽文;尹明;司卫华;秦健 | 申请（专利权）人： | 清华大学 |
| 主分类号： | B82B3/00 | 分类号： | B82B3/00;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 西安智大知识产权代理事务所 61215 | 代理人： | 贾玉健 |
| 地址： | 100084 北京市海淀区1*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 纳米 制造 系统 | ||
【权利要求书】：
1.一种纳米制造系统，其特征在于，包括原子粒子产生系统(3)，原子粒子产生系统(3)通过阀门(2)与气源(1)连通，原子粒子产生系统(3)与原子输运系统(4)相连通，原子输运系统(4)与真空工作室(7)相连通，真空工作室(7)内设置有放置纳米孔阵列掩模板(16)的升降及二维图形扫描支架(15)，纳米孔阵列掩模板(16)边缘上方为光学对准系统(8)，纳米孔阵列掩模板(16)下方为纳米级电子对准系统(17)，纳米孔阵列掩模板(16)下方还设置有用于铺设衬底材料(14)的衬底多维调整支架(9)。
2.根据权利要求1所述的一种纳米制造系统，其特征在于，所述的原子粒子产生系统(3)与RF馈电及原子粒子产生控制系统(5)相连。
3.根据权利要求1所述的一种纳米制造系统，其特征在于，所述的衬底多维调整支架(9)及升降及二维图形扫描支架(15)的驱动端，均与真空工作室(7)外的支架控制系统(13)的控制端相连。
4.根据权利要求1所述的一种纳米制造系统，其特征在于，所述的光学对准系统(8)与纳米级电学光学对准系统(17)组成级联对准系统与对准及PC显示系统(10)的控制端相连。
5.根据权利要求1所述的一种纳米制造系统，其特征在于，所述的真空工作室(7)的一侧设置有阀门(11)，阀门(11)与真空泵(12)相连接。
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