[发明专利]投影机有效
申请号: | 201110030829.2 | 申请日: | 2011-01-25 |
公开(公告)号: | CN102135717A | 公开(公告)日: | 2011-07-27 |
发明(设计)人: | 若林慎一;横山荣司 | 申请(专利权)人: | 精工爱普生株式会社 |
主分类号: | G03B21/16 | 分类号: | G03B21/16;G03B21/14;H05K7/20 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人: | 陈海红;段承恩 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 投影机 | ||
1.一种投影机,其特征在于,具备:
将入射进来的光束偏振分离为偏振方向互相正交的第1线偏振光及第2线偏振光的反射型偏振板;
相对于前述反射型偏振板倾斜配设,将通过前述反射型偏振板所偏振分离了的前述第1线偏振光相应于图像信息进行调制,并朝向前述反射型偏振板出射的反射型光调制装置;
对前述反射型偏振板及前述反射型光调制装置进行支持的支持体;和
配设于在通过前述反射型光调制装置调制之前入射于前述反射型偏振板并通过前述反射型偏振板偏振分离了的前述第2线偏振光的出射侧,连接于前述支持体的遮蔽构件。
2.按照权利要求1所述的投影机,其特征在于:
前述遮蔽构件及前述支持体一体成形。
3.按照权利要求1或2所述的投影机,其特征在于:
前述反射型光调制装置具备:对入射进来的光束进行调制的装置主体和电连接于前述装置主体的柔性布线基板,
前述柔性布线基板在前述反射型光调制装置被支持于前述支持体时,朝向前述遮蔽构件引绕,安装于前述遮蔽构件。
4.按照权利要求1~3中的任何一项所述的投影机,其特征在于:
对前述遮蔽构件实施了对入射进来的光束进行吸收的光吸收处理。
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