[发明专利]辐射探测器有效
申请号: | 201110031432.5 | 申请日: | 2005-03-10 |
公开(公告)号: | CN102136502A | 公开(公告)日: | 2011-07-27 |
发明(设计)人: | 阿恩特·耶格;彼得·施陶斯;赖纳·温迪施 | 申请(专利权)人: | 奥斯兰姆奥普托半导体有限责任公司 |
主分类号: | H01L31/0304 | 分类号: | H01L31/0304;H01L31/0216;H01L31/0352;H01L31/103 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 李德山;周涛 |
地址: | 德国雷*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 辐射 探测器 | ||
1.一种根据预先给定的人眼的光谱灵敏度分布(9)的用于探测辐射的辐射探测器,其中所述灵敏度分布(9)在波长λ0’处具有最大值,所述辐射探测器包括半导体本体(1),所述半导体本体(1)具有用于产生探测器信号的且为了辐射接收而设置的有源区(5),其特征在于,所述半导体本体(1)含有至少一种III-V族半导体材料,并且所述有源区(5)包括多个功能层。
2.根据权利要求1所述的辐射探测器,其特征在于,所述功能层(4a、4b、4c、4d)至少部分地吸收在包括大于所述波长λ0’的波长的波长范围内的辐射(8)。
3.根据权利要求1或2所述的辐射探测器,其特征在于,所述功能层(4a、4b、4c、4d)具有不同的带隙和/或厚度。
4.根据权利要求1至3之一所述的辐射探测器,其特征在于,在所述有源区之后设置有过滤层结构(70),所述过滤层结构(70)包括至少一个过滤层(7、7a、7b、7c),其中所述过滤层结构(70)根据预先给定的所述光谱灵敏度分布(9)通过吸收在包括小于λ0’的波长的波长范围中的辐射来确定所述探测器灵敏度(10)的短波侧(101)。
5.根据权利要求4所述的辐射探测器,其特征在于,所述过滤层结构(70)在朝向入射的辐射(8)的方向上设置在所述有源区(5)之后。
6.根据权利要求4或5所述的辐射探测器,其特征在于,所述过滤层结构(70)包括单个的过滤层(7),所述过滤层(7)具有直接带隙和间接带隙。
7.根据权利要求6的辐射探测器,其特征在于,所述直接带隙大于在所述有源区(5)方面设置在所述过滤层(7)之后的功能层的带隙。
8.根据权利要求6或7所述的辐射探测器,其特征在于,所述过滤层(7)通过由间接带隙来吸收在包括小于λ0的波长的波长范围内的辐射而确定所述探测器灵敏度的短波侧。
9.根据权利要求6至8之一所述的辐射探测器,其特征在于,所述直接带隙确定所述探测器灵敏度的短波边界。
10.根据权利要求6至9之一所述的辐射探测器,其特征在于,所述过滤层(7)的厚度大于1μm,特别是10μm或更多。
11.根据权利要求4至10之一所述的辐射探测器,其特征在于,所述过滤层结构(70)具有不同带隙和/或厚度的多个过滤层(7a、7b、7c)。
12.根据权利要求11的辐射探测器,其特征在于,所述过滤层结构(70)通过由相应的过滤层(7a、7b、7c)的直接带隙来吸收在包括小于λ0的波长的波长范围内的辐射而确定所述探测器灵敏度(10)的短波侧。
13.根据权利要求11或12所述的辐射探测器,其特征在于,所述过滤层结构(70)具有1μm或更小的厚度。
14.根据上述权利要求中的至少之一所述的辐射探测器,其特征在于,所述功能层(4a、4b、4c、4d)根据预先给定的光谱灵敏度分布(9)通过其构造确定针对大于λ0的波长的、所述探测器灵敏度(10)的长波侧(102)。
15.根据上述权利要求中的至少之一所述的辐射探测器,其特征在于,在所述半导体本体(1)中下属的功能层(4a、4b、4c、4d)的带隙至少部分地在朝向所述入射的辐射(8)的方向上增加。
16.根据上述权利要求中的至少之一所述的辐射探测器,其特征在于,所述功能层(4a、4b、4c、4d)或所述功能层的至少一部分基本上不掺杂。
17.根据上述权利要求中的至少之一所述的辐射探测器,其特征在于,所述有源区(5)包括至少一种异质结构。
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