[发明专利]一种高利用率的平面磁控溅射靶

权利要求书

1.一种高利用率的平面磁控溅射靶，包括靶材和磁体组件，其特征是：所述的磁体组件和靶材之间可相对运动。

2.根据权利要求1所述的高利用率的平面磁控溅射靶，其特征是：设有由靶座体与后盖板组成的背靶座，所述的靶座体固定于真空镀膜室内壁上，靶座体后表面开有对应于靶材的凹槽并以后盖板水密封封盖，且两者之间留有空隙形成水冷通道；所述的靶材后面紧贴在靶座体前表面；所述的磁体组件置于后盖板的外表面之上，设有驱动机构带动可相对地在后盖板外表面上移动。

3.根据权利要求2所述的高利用率的平面磁控溅射靶，其特征是：所述的磁体组件由矩形槽状磁体座和多块磁体及矩形衔铁组成，所述的衔铁铣有三条平行矩形长边的磁体定位浅槽，所述的磁体是方形或矩形截面的条状磁块，由多块磁体沿上述衔铁磁体定位浅槽拼接排成三列，磁体的一磁极端与衔铁相吸，同列的磁体极性朝向相同，相邻两列的磁体极性朝向相反；衔铁与三列磁体一起装入磁体座槽内固定，衔铁贴在槽底上；矩形槽状磁体座开口端露出三列磁体的另一端磁极，对着上述背靶座的后蓋板的外表面。

4.根据权利要求3所述的高利用率的平面磁控溅射靶，其特征是：所述的矩形槽状磁体座的两短边端面，贴靠着固定在靶座后盖板上的导向轮组上，后者成为磁体组件往复移动的滾动导轨。

5.根据权利要求2至4所述的任意一项高利用率的平面磁控溅射靶，其特征是：所述的驱动机构为：带減速器的电机固定支撑在镀膜室内，电机轴与驱动园盘紧固相连，在驱动盘设有一偏心连接短轴，它与偏心连杆的一端活动连接，偏心连杆的另一端与磁体组件的磁体座的后中轴活动连接。

6.根据权利要求5所述的高利用率的平面磁控溅射靶，其特征是：所述的驱动机构为：气缸推杆驱动机构或电机齿轮齿条系统驱动机构、直线电机驱动机构。

7.根据权利要求6所述的高利用率的平面磁控溅射靶，其特征是：所述的靶材为矩形靶材，其宽度大于或等于磁体组件宽度1.5倍。