[发明专利]有机半导体材料,有机半导体薄膜和有机半导体器件无效
申请号: | 201110033683.7 | 申请日: | 2006-05-31 |
公开(公告)号: | CN102161621A | 公开(公告)日: | 2011-08-24 |
发明(设计)人: | 大江贵裕;川岛纪之;高桥保;菅野研一郎 | 申请(专利权)人: | 索尼株式会社;国立大学法人北海道大学 |
主分类号: | C07C69/76 | 分类号: | C07C69/76;C07C255/52;C07C15/38;H01L51/00 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 贾静环 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 有机 半导体材料 有机半导体 薄膜 半导体器件 | ||
1.一种有机半导体材料,由下面通式(2)表示的多并苯衍生物组成,在通式(2)中,n是0-20的整数,R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7和R8各自满足下面(条件-B1)和(条件-B2):
通式(2)
(条件-B1)
R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7和R8独立地是相同的取代基或不同的取代基,当n大于2时,通式(2)中存在的多个R5可以是相同的取代基或不同的取代基,通式(2)中存在的多个R8可以是相同的取代基或不同的取代基,且R1、R4、R5和R8不能同时为氢原子;
(条件-B2)
R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7和R8各自是至少一种选自以下的取代基组的取代基:有取代基的碳原子数为1-20的脂族烃基、有取代基的芳族烃基、有取代基的配位芳基、羧基、氢化物、酯基、氰基、羟基、硫代羧基、二硫代羧基、磺酸基、亚磺酸基、次磺酸基、磺酰基、亚磺酰基、酰卤基、氨基甲酰基、酰肼基、酰亚胺基、酰胺基、脒基、异氰基、氰酸酯基、异氰酸酯基、硫氰酸酯基、异硫氰酸酯基、甲酰基、硫醛基、酰基、硫醇基、氨基、亚氨基、肼基、烷氧基、芳氧基、醚基、硫醚基、二硫醚基、甲硅烷基、甲锗烷基、甲锡烷基、膦基、硼烷基、卤原子和氢原子。
2.如权利要求1所述的有机半导体材料,其特征在于,在(条件-B1)中,R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7和R8各自是至少一种选自以下的取代基组的取代基:有取代基的碳原子数为1-20的脂族烃基、有取代基的芳族烃基、有取代基的配位芳基、羧基、氢化物、酯基、氰基、羟基、卤原子和氢原子
3.如权利要求2所述的有机半导体材料,其特征在于,n大于5,且在一部分并苯骨架上的取代基是碳原子数大于3的烷基。
4.一种有机半导体薄膜,由权利要求1或2的有机半导体材料制成,所述有机半导体薄膜具有结晶度。
5.如权利要求4所述的有机半导体薄膜,其特征在于,在有机半导体材料的一部分并苯骨架上的取代基是碳原子数大于3的烷基。
6.如权利要求5所述的有机半导体薄膜,其特征在于,它具有堆叠结构。
7.一种有机半导体器件,包括由权利要求1或2所述的有机半导体材料制成的有机半导体薄膜,所述有机半导体薄膜具有结晶度。
8.如权利要求7所述的有机半导体器件,其特征在于,在有机半导体材料的一部分并苯骨架上的取代基是碳原子数大于3的烷基。
9.如权利要求8所述的有机半导体器件,其特征在于,所述有机半导体薄膜具有堆叠结构。
10.如权利要求7-9中任一项所述的有机半导体器件,其特征在于,所述有机半导体器件由源电极/漏电极、被夹在源电极/漏电极与源电极/漏电极之间的沟道形成区、栅极绝缘层、以及与沟道形成区相对并通过所述栅极绝缘层的栅电极构成,所述沟道形成区由有机半导体薄膜构成。
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