[发明专利]透明导电膜的制造方法、导电性薄膜以及透明发热体有效
申请号: | 201110033964.2 | 申请日: | 2011-01-31 |
公开(公告)号: | CN102208229A | 公开(公告)日: | 2011-10-05 |
发明(设计)人: | 涌井隆史;岩见一央;磴秀康 | 申请(专利权)人: | 富士胶片株式会社 |
主分类号: | H01B5/14 | 分类号: | H01B5/14;H01B13/00;H05B3/34 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 李辉;黄纶伟 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 透明 导电 制造 方法 导电性 薄膜 以及 发热 | ||
1.一种透明导电膜的制造方法,其特征在于,该制造方法包括:
位置选择步骤,从规定的二维图像区域中选择多个位置;
图像数据生成步骤,根据所选择的所述多个位置,生成表示具有多个开口部的网格图案的纹样的图像数据;
评价值计算步骤,针对经由所述多个开口部产生的光干涉的指向性,根据所生成的所述图像数据,计算针对相交的2轴方向进行定量化后的第1评价值;
图像数据确定步骤,根据计算出的所述第1评价值和规定的评价条件,确定一个所述图像数据作为输出用图像数据;以及
制造步骤,根据所确定的所述输出用图像数据,在透明基材上输出并形成线材,制造具有所述网格图案的透明导电膜。
2.根据权利要求1所述的透明导电膜的制造方法,其特征在于,所述方法包括:
第1输入步骤,输入与所述网格图案的视觉确认性有关的所述线材的视觉确认信息;
第2输入步骤,输入与所述网格图案的视觉确认性有关的所述透明基材的视觉确认信息;以及
图像信息估计步骤,根据所输入的所述线材及所述透明基材的视觉确认信息,估计与所述网格图案对应的图像信息,
在所述图像数据生成步骤中,根据估计出的所述图像信息生成所述图像数据。
3.根据权利要求2所述的透明导电膜的制造方法,其特征在于,
所述线材的视觉确认信息包含该线材的种类、颜色值、光透过率或光反射率、或者配线的截面形状或粗细中的至少一项,
所述透明基材的视觉确认信息包含该透明基材的种类、颜色值、光透过率、光反射率或膜厚中的至少一项。
4.根据权利要求1所述的透明导电膜的制造方法,其特征在于,
所述第1评价值是使用所述图像数据的二维功率谱计算出的评价值。
5.根据权利要求4所述的透明导电膜的制造方法,其特征在于,
所述第1评价值是使用所述二维功率谱的针对所述2轴方向的各力矩计算出的评价值。
6.根据权利要求4所述的透明导电膜的制造方法,其特征在于,
所述第1评价值是使用针对所述2轴方向的所述力矩之比计算出的评价值。
7.根据权利要求4所述的透明导电膜的制造方法,其特征在于,
所述第1评价值是使用所述二维功率谱的空间频域的一部分计算出的评价值。
8.根据权利要求1所述的透明导电膜的制造方法,其特征在于,
在所述评价值计算步骤中,还根据所述图像数据计算用于评价所述网格图案的噪声特性的第2评价值,
在所述图像数据确定步骤中,根据计算出的所述第1评价值、所述第2评价值及规定的评价条件,确定一个所述图像数据作为输出用图像数据。
9.根据权利要求8所述的透明导电膜的制造方法,其特征在于,
所述第2评价值是表示粒度的评价值。
10.根据权利要求9所述的透明导电膜的制造方法,其特征在于,
所述第2评价值是RMS粒度。
11.根据权利要求9所述的透明导电膜的制造方法,其特征在于,
所述第2评价值是利用人的视觉响应特性函数进行校正后的RMS粒度。
12.根据权利要求11所述的透明导电膜的制造方法,其特征在于,
所述人的视觉响应特性函数是Dooley-Shaw函数。
13.根据权利要求11所述的透明导电膜的制造方法,其特征在于,
在所述图像数据生成步骤中,使用德洛内三角形分割法根据所述多个位置形成网格状的纹样,生成表示该纹样的图像数据。
14.根据权利要求11所述的透明导电膜的制造方法,其特征在于,
在所述图像数据生成步骤中,使用维诺图根据所述多个位置形成网格状的纹样,生成表示该纹样的图像数据。
15.根据权利要求1所述的透明导电膜的制造方法,其特征在于,
所述方法包括位置更新步骤,在该位置更新步骤中,根据所述第1评价值和/或所述第2评价值,将所述多个位置中的一部分分别更新为其他的位置,
在所述位置更新步骤中,依次重复所述图像数据生成步骤及所述评价值计算步骤,通过所述图像数据确定步骤确定所述输出用图像数据。
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