[发明专利]导电糊剂及导电图案

说明书

技术领域

本发明涉及例如用于等离子体显示板(以下记载为PDP)的导电糊剂及导电图案。

背景技术

通常，PDP由设置于背面玻璃基板上的寻址电极、以及隔壁(rib)等构成，所述隔壁设置于背面玻璃基板与以规定间隔相对的前面玻璃基板之间，用于形成具备荧光体层的放电空间，并将各显示像素分隔开。

这种PDP中，隔壁例如如下形成：在背面玻璃基板上形成寻址电极后，整面涂布由玻璃或填料等无机材料、树脂、溶剂等构成的隔壁材料的糊剂，利用光刻法将涂膜图案化后，进行烧成，从而形成隔壁。

此时，从提高其生产率、图案精度的观点出发，图案化优选采用化学蚀刻法。化学蚀刻法是指如下方法：在涂膜表面形成保护膜的图案，以其作为掩模进行化学蚀刻处理，形成涂膜图案后，除去保护膜。

这种化学蚀刻法中，作为化学蚀刻处理时的腐蚀剂(etchant)使用硝酸等酸。此时，由于隔壁，用于通过外部电路施加电压而设置的寻址电极的端子部分成为露出的结构，因此存在化学蚀刻时暴露于酸中而受损、电特性劣化的问题。

因此，公开了：为了提高寻址电极的耐酸性，使用含铅的玻璃粉作为寻址电极用的导电糊剂，以提高化学蚀刻耐久性(例如参照专利文献1等)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2007-012371号公报(权利要求书)

发明内容

发明要解决的问题

本发明的目的在于，提供一种能够形成耐酸性优异的寻址电极等的导电图案的导电糊剂、以及耐酸性优异的导电图案。

用于解决问题的方案

本发明的一方案的导电糊剂，其特征在于，其含有无机成分、及有机粘合剂，所述无机成分含有导电粉末和玻璃粉，所述玻璃粉含有：氧化铋；二氧化硅；氧化硼；氧化锆和二氧化钛中的至少任一种；RO(RO为选自BeO、MgO、CaO、BaO、SrO中的至少一种)；以及R₂O(R₂O为选自Li₂O、Na₂O、K₂O、Rb₂O、Cs₂O中的至少一种)。通过这种构成，可以提供能够形成耐酸性优异的寻址电极的导电糊剂。

本发明的一方案的导电糊剂中，玻璃粉在无机成分中的含量优选为1～15wt％。通过使无机成分中的含量在该范围，能够改善烧成后以及酸处理后与基材的密合性。

另外，本发明的一方案的导电糊剂中，有机粘合剂优选含有含羧基树脂。通过含有含羧基树脂，能够进行环境负荷小的碱显影。

本发明的一方案的电极，其特征在于，其含有导电粉末和玻璃粉，所述玻璃粉含有：氧化铋；二氧化硅；氧化硼；氧化锆和二氧化钛中的至少任一种；RO(RO为选自BeO、MgO、CaO、BaO、SrO中的至少一种)；以及R₂O(R₂O为选自Li₂O、Na₂O、K₂O、Rb₂O、Cs₂O中的至少一种)。通过这种构成，能够提供耐酸性优异的导电图案。

进而，这种导电糊剂和电极适合用于下述等离子体显示板的制造方法中：使用上述构成的导电糊剂在基材上形成电极，或者在基材上设置上述构成的电极，在基材上整面涂布含有隔壁材料的糊剂而形成涂膜，在该涂膜表面形成规定图案的保护膜，以其作为掩模，进行酸蚀刻处理，形成隔壁。通过这样使用，从而即使在酸蚀刻处理时电极暴露于酸中，也能够抑制损伤，抑制电特性的劣化。

发明的效果

根据本发明的一方案的导电糊剂，能够形成耐酸性优异的寻址电极。另外，根据本发明的一方案的导电图案，能够获得优异的耐酸性。

具体实施方式

以下，对本发明的实施方式进行详细说明。