[发明专利]2-硒基-N-氧化吡啶与稀土金属离子配合物及制备方法及其用途

说明书

技术领域

本发明涉及2-硒基-N-氧化吡啶与稀土金属离子配合物及制备方法及其用途。

技术背景

硒是人体所必需的一种微量元素，具有广泛的生物学功能。它的缺乏会导致人的多种疾病，如癌症、心血管病等。目前，国内外用于肿瘤防治的硒化合物在临床上使用或试用的有亚硒酸钠、硒酵母、硒代胱氨酸等。由于硒化合物具有一定的毒性，使得其应用受到一定的限制。一般认为有机硒化合物比无机硒毒性小而且疗效高。

2-硒基-N-氧化吡啶作为一种配体，具有如下结构：

配体中的氧原子和硒基不仅易于与p区和d区金属离子配位生成螯合物，而且也可以与f区金属离子配位生成螯合物。1985年，Henderson，R.；Rothgery，E.F.；和Schroeder，H.A.用2-溴吡啶和硒氢化钠反应合成了2-硒基-N-氧化吡啶及其与锌的配合物(美国专利：专利号：4496559)，该配合物具有很好的抗菌活性。本发明发现2-硒基-N-氧化吡啶与稀土金属离子配合物具有显著抗肿瘤和抑菌、抗菌生物活性，可以广泛应用于工业、农业、医药和化妆品等领域。

发明内容

本发明的目的提供在于以2-硒基-N-氧化吡啶为原料与稀土金属离子配位反应生成的配合物，以及该配合物的制备方法和该配合物的用途。

本发明的技术方案如下：一种2-硒基-N-氧化吡啶与稀土金属离子反应生成配合物其结构式为：

式中：M＝Yb³⁺或Pr³⁺或Gd³⁺离子。

其2-硒基-N-氧化吡啶与稀土金属离子的摩尔比为3∶1；该方法包括如下步骤：

步骤1.将2-硒基-N-氧化吡啶溶于乙醇中，常温下搅拌溶解；

步骤2.将稀土氧化物溶于质量浓度70％的HClO₄或质量浓度36％的HCl溶液中，加热反应，浓缩蒸发，生成M(ClO₄)₃·6H₂O或MCl₃·6H₂O；稀土氧化物与浓HClO₄或浓HCl的用量为：每克稀土氧化物用浓HClO₄ 15-20mL或浓HCl 20-25mL；

步骤3.将步骤2的产物溶于水，滴加到步骤1的溶液中；溶于水的量为每克氧化物溶于25-30mL水；

步骤4.调pH为5-6，在40-50℃下搅拌反应2-4小时，过滤，水、乙醇洗涤，真空干燥，得2-硒基-N-氧化吡啶与稀土金属离子配合物。

步骤1中所述的乙醇溶液为无水乙醇或质量浓度95％乙醇溶液。

所述的稀土金属离子包括镱(III)、镨(III)、钆(III)等。

2-硒基-N-氧化吡啶与稀土金属离子反应生成的配合物的用途发明是在治疗抑菌、杀菌和抗肿瘤药物中的应用。

本发明的有益效果是，原料廉价，反应条件温和，操作简便，产率较高，环境友好；所生成的2-硒基-N-氧化吡啶稀土金属配合物，组成明确，结构清楚。

附图说明

图1是三(2-硒基-N-氧化吡啶)·二水合镱(III)配合物谱图；

图2是三(2-硒基-N-氧化吡啶)·二水合镨(III)配合物谱图；

图3是三(2-硒基-N-氧化吡啶)·二水合钆(III)配合物谱图；

具体实施方式

通过以下实施例进一步详细说明本发明，但应注意本发明的范围并不受这些实施例的任何影响。

实施例1

1.三(2-硒基-N-氧化吡啶)·二水合镱(III)配合物的合成