[发明专利]具有粘接到其上的涂覆膜的部分的光刻设备

说明书

本申请是2008年6月18日申请的申请号为200810125483.2的发明名称为“具有粘接到其上的涂覆膜的部分的光刻设备”的专利申请的分案申请。

技术领域

本发明涉及一种光刻设备以及一种用于制造器件的方法。

背景技术

光刻设备是一种将所需图案应用到衬底上(通常到所述衬底的目标部分上)的机器。例如，可以将光刻设备用在集成电路(IC)的制造中。在这种情况下，可以将可选地称为掩模或掩模版(reticle)的图案形成装置用于生成在所述IC的单层上待形成的电路图案。可以将该图案转移到衬底(例如，硅晶片)上的目标部分(例如，包括一部分管芯、一个或多个管芯)上。典型地，经由成像将所述图案转移到在所述衬底上设置的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上。通常，单独的衬底将包含连续形成图案的相邻目标部分的网络。公知的光刻设备包括：所谓步进机，在所述步进机中，通过将全部图案一次曝光到所述目标部分上来辐射每一个目标部分；以及所谓扫描器，在所述扫描器中，通过辐射束沿给定方向(“扫描”方向)扫描所述图案、同时沿与该方向平行或反向平行的方向扫描所述衬底来辐射每一个目标部分。还可以通过将所述图案压印(imprinting)到所述衬底上，将所述图案从所述图案形成装置转移到所述衬底上。

所述光刻设备可以是其中衬底可以被具有相对高折射率的液体(例如水)浸没的类型，以便填充投影系统的最终元件和衬底之间的空隙。浸没液也可以被应用到光刻设备中的其他空隙中(例如在所述掩模和投影系统的第一元件之间)。浸没式光刻在美国专利申请公开出版物No.US2004/0119954和PCT专利申请公开出版物No.WO2004/093160中被提及。

发明内容

在浸没式光刻设备中，被浸湿的表面的接触角可能是很大的。然而，在使用中，例如由于辐射曝光、机械接触等，接触角可能变小。浸没液的使用也可能或可选地导致在投影系统、衬底支撑件或者在所述液体或可能从所述液体发出的蒸汽附近的光刻设备的其他部分上的污染。例如，污染物可能残留在可能存在于衬底支撑件上的传感器上。这可能导致在例如将衬底与图案形成装置对齐方面的误差和/或所述传感器的寿命的降低。

可能在光刻设备中出现的附加的或替代的问题是污染物在所述设备的至少一个部分(例如传感器)上的沉积和形成。这种污染物可能源自例如抗蚀剂处理外的沥滤产品。污染物的沉积可能依赖于沉积的位置，导致涉及例如上述接触角、设备部件的寿命、对准、调平、传感器光栅恶化和/或辐射阻挡等关键问题。

局部薄膜密封可能被用在浸没式光刻设备的衬底支撑件的顶表面上，以便保护其免受浸没液的影响。然而，所述局部独立的薄膜密封可能需要局部的亲水间隙和/或形成高度台阶。为此，浸没液可能残留，且可能产生所不希望的力。

进而，光刻设备的衬底支撑件的顶表面的一部分可能局部涂覆有涂层，以便保护其免受紫外(UV)辐射。然而，这些局部涂层例如由于使用中的所不希望的接触和/或劣化而造成磨损，引起表面亲水性能的变化。涂层的损坏导致被所述涂层所保护的部分的高成本的替换或整修，在该情况下所述被保护的部分为衬底支撑件。

存在用于施加涂层的多种方法，例如化学气相沉积和离子束溅射。主要采用这些途径的系统被设计以非常精确地涂覆所需的表面。因此，它们很昂贵，并需要大量的建立时间。

相应地，旨在例如提供一种光刻设备，所述光刻设备恰当地被保护，而免受来自例如UV辐射和/或浸没液的负面影响。

根据本发明的实施例，提供一种光刻设备，所述光刻设备包括：

照射系统，所述照射系统配置用于调节辐射束；

支撑件，所述支撑件配置用于支撑图案形成装置，所述图案形成装置能够将图案在辐射束的横截面上赋予辐射束，以形成图案化的辐射束；

衬底支撑件，所述衬底支撑件配置用于保持衬底；

投影系统，所述投影系统配置用于将所述图案化的辐射束投影到衬底的目标部分上；以及

可去除的粘合膜，所述粘合膜在所述设备的至少一部分上携带有涂层。

根据本发明的实施例，提供一种器件制造方法，所述方法包括：

将图案在辐射束的横截面上赋予辐射束；

采用光刻设备，将所述图案化的辐射束投影到衬底的目标部分上，可去除的粘合膜在所述设备的至少一部分上携带有涂层；

对被投影的衬底进行显影；以及

由所述被显影的衬底制造器件。

附图说明

在此仅借助示例，参照所附示意图对本发明的实施例进行描述，在所附示意图中，相同的附图标记表示相同的部分，且其中：