[发明专利]表面发射激光器阵列、光学扫描装置及图像形成装置有效
| 申请号： | 201110037067.9 | 申请日： | 2007-08-20 |
| 公开（公告）号： | CN102136677A | 公开（公告）日： | 2011-07-27 |
| 发明（设计）人： | 佐藤俊一;伊藤彰浩;菅原悟;庄司浩义 | 申请（专利权）人： | 株式会社理光 |
| 主分类号： | H01S5/183 | 分类号： | H01S5/183;H01S5/42 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 王冉 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 表面 发射 激光器 阵列 光学 扫描 装置 图像 形成 | ||
【权利要求书】：
1.一种表面发射激光器阵列，包括，
元件布置部，设置在基板上并布置有多个表面发射激光器元件，
平坦部，设置在所述基板上并沿所述基板的表面内方向设置在所述元件布置部的周围，
所述多个表面发射激光器元件的每一个包括发射激光束的台结构，
所述平坦部和所述元件布置部包括：吸收在形成所述台结构时沿所述表面内方向的蚀刻深度差异的吸收层，
所述台结构的底面沿与所述基板垂直的方向位于所述吸收层中。
2.如权利要求1所述的表面发射激光器阵列，其中，
所述多个表面发射激光器元件的每一个包括：
第一反射层，形成于基板上以构成半导体布拉格反射器；
共振器，形成为接触所述第一反射层并包含有源层；
第二反射层，接触所述共振器以构成所述半导体布拉格反射器，
所述吸收层沿所述共振器的厚度方向设置为所述共振器的至少一部分。
3.如权利要求2所述的表面发射激光器元件，其中所述吸收层沿所述共振器的厚度方向形成于所述共振器的整个区域内。
4.如权利要求2所述的表面发射激光器元件，其中所述吸收层沿所述共振器的厚度方向形成于所述共振器的整个区域内，并沿所述第二反射层的厚度方向部分地形成。
5.如权利要求1～4的任一项所述的表面发射激光器元件，其中，所述吸收层至少包括In。
6.如权利要求1～5的任一项所述的表面发射激光器元件，其中，所述平坦部包括与所述多个表面发射激光器元件连接的多个焊垫。
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