[发明专利]强化PMS复合工艺去除水中微量污染物的方法无效
| 申请号： | 201110038888.4 | 申请日： | 2011-02-16 |
| 公开（公告）号： | CN102139949A | 公开（公告）日： | 2011-08-03 |
| 发明（设计）人： | 马军;关英红;李旭春;方晶云;陈丽玮 | 申请（专利权）人： | 哈尔滨工业大学 |
| 主分类号： | C02F1/72 | 分类号： | C02F1/72;C02F1/32;C02F1/30;C02F1/02 |
| 代理公司： | 哈尔滨市松花江专利商标事务所 23109 | 代理人： | 韩末洙 |
| 地址： | 150001 黑龙*** | 国省代码： | 黑龙江;23 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 强化 pms 复合 工艺 去除 水中 微量 污染物 方法 | ||
1.强化PMS复合工艺去除水中微量污染物的方法，其特征在于强化PMS复合工艺去除水中微量污染物的方法是按下述步骤完成的：向含有微量污染物的水中投加过氧化单硫酸钾盐和强化剂并加以紫外辐照、激光辐照或热解，然后搅拌均匀反应；即完成了水中微量污染物去除；其中过氧化单硫酸钾投加量为1.5mg/L～1.5g/L，强化剂的投加量为0.1mg/L～1g/L，所述强化剂为氢氧化钠、氢氧化钾、氢氧化钙、氨水、氧化钠、氧化钾、氧化钙、氧化锂、碳酸钠、碳酸氢钠、碳酸钾、碳酸氢钾、碳酸铵中的一种或者其中几种的组合。
2.根据权利要求1所述的强化PMS复合工艺去除水中微量污染物的方法，其特征在于所述强化剂的投加量为10mg/L～0.5g/L。
3.根据权利要求1或2所述的强化PMS复合工艺去除水中微量污染物的方法，其特征在于所述紫外辐照的光源由低压汞灯、中压汞灯、低压汞齐紫外灯、氙灯、卤素灯或者真空紫外灯提供。
4.根据权利要求1或2所述的强化PMS复合工艺去除水中微量污染物的方法，其特征在于所述激光辐照的光源由发射波长处于180nm～400nm的激光器提供。
5.根据权利要求1或2所述的强化PMS复合工艺去除水中微量污染物的方法，其特征在于所述热解的温度为30～100℃。
6.强化PMS复合工艺去除水中微量污染物的方法，其特征在于强化PMS复合工艺去除水中微量污染物的方法是按下述步骤实现的：向含有微量污染物的水中投加过氧化单硫酸钾盐和强化剂并加以紫外辐照、激光辐照或热解，然后搅拌均匀反应；即完成了水中微量污染物去除；其中过氧化单硫酸钾投加量为1.5mg/L～1.5g/L，强化剂的投加量为0.1mg/L～1g/L，所述强化剂为氧化铍、氧化镁、氧化铜、氧化钡、氧化锶、氧化锌、氧化铝、氧化钇、氧化镧、二氧化铈、二氧化钛、氧化锆、氧化锡、碳酸钙、碳酸钡、二氧化硅、碱金属交换的分子筛、碱土金属交换的分子筛、水滑石中的一种或其中的几种的组合。
7.根据权利要求6所述的强化PMS复合工艺去除水中微量污染物的方法，其特征在于所述强化剂的投加量为10mg/L～0.5g/L。
8.根据权利要求6或7所述的强化PMS复合工艺去除水中微量污染物的方法，其特征在于所述紫外辐照的光源由低压汞灯、中压汞灯、低压汞齐紫外灯、氙灯、卤素灯或者真空紫外灯提供。
9.根据权利要求6或7所述的强化PMS复合工艺去除水中微量污染物的方法，其特征在于所述激光辐照的光源由发射波长处于180nm～400nm的激光器提供。
10.根据权利要求6或7所述的强化PMS复合工艺去除水中微量污染物的方法，其特征在于所述热解的温度为30～100℃。
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