[发明专利]壳体及其制作方法

权利要求书

1.一种壳体，包括一色彩层，其特征在于：该色彩层由氮元素和钛元素组成，色彩层中氮元素的质量百分含量在58％至62％之间，该色彩层呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L*坐标介于57至59之间，a*坐标介于12至14之间，b*坐标介于-6至-8之间。

2.如权利要求1所述的壳体，其特征在于：该壳体包括基体，所述色彩层直接形成于该基体表面。

3.如权利要求1所述的壳体，其特征在于：该壳体包括基体、及结合层，该结合层由铝元素和氮元素组成，该结合层直接形成于基体表面，该色彩层形成于该结合层上。

4.如权利要求3所述的壳体，其特征在于：该结合层中氧元素的含量由靠近该基体至远离该基体的方向递增，且结合层中氧元素的质量百分含量在20％～60％范围内变化。

5.如权利要求2或3所述的壳体，其特征在于：所述基体的材质为铝、铝合金、镁合金及钛合金中的一种。

6.如权利要求1所述的壳体，其特征在于：该色彩层通过磁控溅射方法形成，其厚度为0.4～0.6μm。

7.一种壳体的制作方法，其包括如下步骤：

提供基体；

以铝为靶材，以氧气为反应气体，于基体上溅射由铝元素和氧元素组成的结合层；

以钛为靶材，以氮气为反应气体，于结合层上溅射由钛元素和氮元素组成的色彩层，该色彩层中氮元素质量百分含量为58％至62％之间，该色彩层呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L*坐标介于57至59之间，a*坐标介于12至14之间，b*坐标介于-6至-8之间。

8.如权利要求7所述的壳体的制作方法，其特征在于：溅射该色彩层所用氮气流量为50～70sccm。

9.如权利要求8所述的壳体的制作方法，其特征在于：溅射该色彩层还在如下条件进行：真空度为7.0×10^-3～9.0×10^-3Pa，钛靶功率为7～9kW，以氩气为溅射气体，氩气的流量为150～200sccm，施加于基体的偏压为-150～-250V，占空比为40～60％，溅射时间为10～30min。

10.如权利要求7所述的壳体的制作方法，其特征在于：所述结合层中氧元素的含量由靠近该基体至远离该基体的方向递增，且结合层中氧元素的质量百分含量在20％～60％范围内变化。

11.如权利要求10所述的壳体的制作方法，其特征在于：溅射该结合层是在如下条件进行：氧气流量在20～300sccm范围内逐渐增加，真空度为7.0×10^-3～9.0×10^-3Pa，铝靶功率为7～9kW，以氩气为溅射气体，氩气的流量为150～200sccm，施加于基体的偏压为-150～-250V，占空比为40～60％，溅射时间为0.5～2小时。