[发明专利]一种具有反射膜的陶瓷基板及其制造方法

权利要求书

1.一种具有反射膜的陶瓷基板，所述基板至少包含：

一陶瓷基材，用以构成所述基板的主体；

一反射膜，所述反射膜至少包含一玻璃层与一具有金属结晶的金属膜，其中所述玻璃层是形成于陶瓷基材的一面上，所述具有金属结晶的金属膜系形成于所述玻璃层之上。

2.如权利要求1所述的具有反射膜的陶瓷基板，其中所述金属膜表面进一步设有一金膜。

3.如权利要求1所述的具有反射膜的陶瓷基板，其中所述金属膜可选自金或银。

4.如权利要求1所述的具有反射膜的陶瓷基板，其中所述金属膜的金属结晶直径范围为4至15微米。

5.如权利要求1所述的具有反射膜的陶瓷基板，其中所述玻璃层为至少一选自下述所构成的一组玻璃：PbO、SiO₂、CaO、Al₂O₃、Bi₂O₃、BaO、SrO、B₂O₃、MgO、ZrO、Fe₂O₃、MnO、CuO、CoO、Na₂O、P₂O₅、ZnO、GeO₂及其组合。

6.如权利要求1所述的具有反射膜的陶瓷基板，其中所述陶瓷基板可反射波长大于1微米的红外线。

7.如权利要求6所述的具有反射膜的陶瓷基板，其中所述陶瓷基板可反射波长介于2至12微米的红外线。

8.如权利要求1所述的具有反射膜的陶瓷基板，其中所述陶瓷基板的红外线反射率至少为90％。

9.如权利要求8所述的具有反射膜的陶瓷基板，其中所述陶瓷基板的红外线反射率至少为95％。

10.如权利要求9所述的具有反射膜的陶瓷基板，其中所述陶瓷基板的红外线反射率至少为97％。

11.如权利要求10所述的具有反射膜的陶瓷基板，其中所述陶瓷基板的红外线反射率至少为99％。

12.如权利要求1所述的具有反射膜的陶瓷基板，其中所述陶瓷基板稳定温度至少为600度。

13.如权利要求12所述的具有反射膜的陶瓷基板，其中所述陶瓷基板稳定温度至少为700度。

14.如权利要求13所述的具有反射膜的陶瓷基板，其中所述陶瓷基板稳定温度至少为800度。

15.如权利要求14所述的具有反射膜的陶瓷基板，其中所述陶瓷基板稳定温度至少为900度。

16.一种具有反射膜的陶瓷基板的制造方法，所述方法至少包含下列步骤：

a.提供一陶瓷基材；

b.提供一反射膜材料于所述陶瓷基材上；

c.将贴有所述反射膜材料陶瓷基材以一预烘干温度进行预烘干；

d.将贴有所述反射膜材料的陶瓷基材以一预设烧结温度进行烧结；

e.进行退火，以形成一具有反射膜的陶瓷基板。

17.如权利要求16所述的制造方法，其中在退火步骤e之后进一步执行一测量与判断步骤f，测量所述反射膜的金属膜的金属结晶直径，如所述反射膜的金属膜的金属结晶直径未达到一预定范围值，则重复烧结步骤d、退火步骤e及测量与判断步骤f至所述反射膜的金属膜的金属结晶直径达到一预定范围值。

18.如权利要求17所述的制造方法，其中所述具有反射膜的陶瓷基板的金属膜上进一步形成一金膜。

19.如权利要求17所述的制造方法，其中所述金膜是以溅镀、电镀、涂布或贴合方式形成于所述陶瓷基材上。

20.如权利要求16所述的制造方法，其中所述预烘干温度至少为100度。

21.如权利要求20所述的制造方法，其中所述预烘干温度为110至200度。

22.如权利要求16所述的制造方法，其中所述预烘干时间至少为10分钟。

23.如权利要求22所述的制造方法，其中所述预烘干时间为15至20分钟。