[发明专利]激光直写装置

权利要求书

1.一种激光直写装置，特征在于其构成包括刻写光源(1)、离焦检测模块(2)、光谱分光镜(3)、调焦PZT(4)、物镜(5)、二维XY电机平台(6)、Y轴校正平台(7)、待刻样品(8)、激光干涉仪(9)、总控制器(10)和防震台(11)，上述部件的位置关系如下：

在所述的防震台(11)上设置所述的二维XY电机平台(6)和总控制器(10)，在所述的二维XY电机平台(6)上固定所述的Y轴校正平台(7)，待刻样品(8)置于所述的Y轴校正平台(7)上；所述的刻写光源(1)和离焦检测模块(2)分别位于所述的光谱分光镜(3)的两侧，所述的光谱分光镜(3)与刻写光源(1)和离焦检测模块(2)发出的光束均成45°；所述的调焦PZT(4)与所述的物镜(5)固定连接，以驱动物镜(5)沿Z方向微动进行调焦；所述的激光干涉仪(9)的两面反射镜(9-1、9-4)固定在所述的Y轴校正平台(7)的相邻的相互垂直的两个侧面上，两激光头(9-2、9-3)固定在所述的防震台(11)上，两激光头(9-2、9-3)发射的激光与所述的两面反射镜(9-1、9-4)垂直；所述的总控制器(10)分别与所述的刻写光源(1)、离焦检测模块(2)、调焦PZT(4)、二维电机平台(6)、Y轴校正平台(7)、激光干涉仪(9)相连，分别对各个模块或器件进行控制或获取数据。

2.根据权利要求1所述的激光直写装置，其特征在于所述的Y轴校正平台(7)由固定底座(7-1)、微调PZT(7-2)、滑块(7-3)三部分组成，所述的微调PZT(7-2)一端固定于固定底座(7-1)上，另一端固定在滑块(7-3)上，以推动所述的滑块(7-3)沿Y方向微动。

3.根据权利要求1所述的激光直写装置，其特征在于所述的刻写光源(1)为内调制的半导体激光器、气体激光器+外部光强调制器件或固体激光器+外部光强调制部件构成，所述的外部光强调制部件为声光调制器或电光调制器。

4.根据权利要求1所述的激光直写装置，其特征在于所述的离焦检测模块是象散法离焦检测模块、刀口法离焦检测模块或二象限离焦检测模块。

5.根据权利要求1所述的激光直写装置，其特征在于所述的二维电机平台(6)为直线电机、步进电机、直流电机、交流变频电机所驱动的二维直线平台。

6.根据权利要求1至5任一项所述的激光直写装置，其特征在于所述的激光干涉仪(9)为单频激光干涉仪或双频激光干涉仪。