[发明专利]透明导电性薄膜的制造方法

说明书

本申请是申请日为2008年1月18日、申请号为200810004067.7、名称为“透明导电性薄膜、其制造方法以及具备该透明导电性薄膜的触摸面板”的申请的分案申请。

技术领域

本发明涉及一种在可见光线区域具有透明性而且在薄膜基材上经由底涂层设置透明导电体层的透明导电性薄膜及其制造方法。进而，还涉及具备该透明导电性薄膜的触摸面板。

本发明的透明导电性薄膜除了被用作液晶显示器、电致发光显示器等显示器方式或触摸面板等中的透明电极以外，还被用于透明物品的防静电干扰或电磁波屏蔽等。本发明的透明导电性薄膜特别优选用于触摸面板用途中。其中，优选用于静电电容结合方式的触摸面板用途。

背景技术

利用位置检测的方法不同，触摸面板包括光学方式、超声波方式、静电电容方式、电阻膜方式等。电阻膜方式的触摸面板的透明导电性薄膜与带透明导电体层玻璃经由间隔件对置配置，成为在透明导电性薄膜中流电流来计测带透明导电体层玻璃中的电压的结构。另一方面，静电电容方式的触摸面板的特征在于，以在基材上具有透明导电层的结构为基本结构，没有可动部分，具有高耐久性、高透过率，所以适用于车辆用途等中。

在所述触摸面板中，例如提出了在透明的薄膜基材的单面，从所述薄膜基材的一侧，依次形成第一底涂层、第二底涂层以及透明导电体层的透明导电性薄膜(专利文献1)。

专利文献1：特开2002-326301号公报

发明内容

所述透明导电性薄膜有时图案化透明导电体层。但是，明确化了图案化透明导电体层的图案部与非图案化部的差异，作为显示元件的外观变差。特别是在静电电容结合方式的触摸面板中，由于透明导电体层被用于入射表面侧，所以在已图案化透明导电体层的情况下，作为显示元件的外观也需要为良好。

本发明的目的在于提供一种透明导电体层已被图案化而且外观良好的透明导电性薄膜及其制造方法。另外，其目的还在于提供一种具备该透明导电性薄膜的触摸面板。

本发明人等为了解决所述课题而进行潜心研究，结果发现通过采用下述结构可以实现所述目的，以至完成本发明。

即，本发明涉及一种透明导电性薄膜，其是在透明的薄膜基材的单面或两面经由至少一层底涂层具有透明导电体层的透明导电性薄膜，其特征在于，

所述透明导电体层已被图案化，而且在不具有所述透明导电体层的非图案部具有所述至少一层底涂层。

在所述透明导电性薄膜中，在至少具有两层底涂层的情况下，优选至少离透明的薄膜基材最远的底涂层与透明导电体层同样地被图案化。

在所述透明导电性薄膜中，在至少具有两层底涂层的情况下，优选至少离透明的薄膜基材最远的底涂层由无机物形成。由无机物形成的底涂层优选为SiO₂膜。

在所述透明导电性薄膜中，从透明的薄膜基材开始第一层的底涂层优选由有机物形成。

在所述透明导电性薄膜中，透明导电体层的折射率与底涂层的折射率的差优选为0.1以上。

在所述透明导电性薄膜中，

在已被图案化的透明导电体层经由两层底涂层设置的情况下，优选

从透明的薄膜基材开始第一层的底涂层的折射率(n)为1.5～1.7，厚度(d)100～220nm，

从透明的薄膜基材开始第二层的底涂层的折射率(n)为1.4～1.5，厚度(d)20～80nm，

透明导电体层的折射率(n)为1.9～2.1，厚度(d)为15～30nm，

所述各层的光学厚度(n×d)的总合为208～554nm。

另外，优选已被图案化的透明导电体层和两层底涂层的所述光学厚度的总合与非图案部的底涂层的光学厚度的差(Δnd)为40～130nm。

作为本发明的透明导电性薄膜，以在至少单面配置所述已被图案化的透明导电体层的方式，可以使用经由透明的粘合剂层至少叠层两片所述透明导电性薄膜的透明导电性薄膜。

另外，作为本发明的透明导电性薄膜，以在单面配置所述已被图案化的透明导电体层的方式，可以使用在所述透明导电性薄膜的单面经由透明的粘合剂层贴合透明基体的透明导电性薄膜。

所述透明导电性薄膜可以优选用于触摸面板。作为触摸面板，优选静电电容结合方式的触摸面板。

另外，本发明还涉及一种透明导电性薄膜的制造方法，其是所述透明导电性薄膜的制造方法，其特征在于，

具有：

配制在透明的薄膜基材的单面或两面经由至少一层底涂层具有透明导电体层的透明导电性薄膜的工序；以及

利用酸蚀刻所述透明导电体层从而图案化的工序。