[发明专利]一种微生物的检测装置无效
申请号: | 201110045921.6 | 申请日: | 2011-02-25 |
公开(公告)号: | CN102650609A | 公开(公告)日: | 2012-08-29 |
发明(设计)人: | 范小林;曾祥志;李勋;谢应茂;袁寿财 | 申请(专利权)人: | 赣南师范学院 |
主分类号: | G01N27/26 | 分类号: | G01N27/26;H01L21/8232 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 341000 *** | 国省代码: | 江西;36 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 微生物 检测 装置 | ||
1.本发明涉及一种微生物的检测装置,其特征在于:这种微生物的检测装置主要由化学极化场效应传感器及检测系统两部分构成。
2.根据权利要求1所述的化学极化场效应传感器,其加工步骤如下:
1)选n+-p-型(100)晶向单晶硅作衬底材料;
2)在p型硅的表面通过化学气相淀积CVD或热氧化生长二氧化硅层;
3)光刻第一层掩膜,制作垂直槽结构,通过杂质掺杂形成耗尽型器件的导电沟道薄层n-层(杂质磷);
4)制作敏感栅介质膜,结构为二氧化硅和氮化硅,并用多晶硅填充栅槽,通过硬掩膜反刻技术,刻蚀多晶硅并止于氮化硅;
5)干法刻蚀氮化硅和二氧化硅,并光刻第二层掩膜,通过杂质掺杂形成器件的源区导电层n+层(杂质砷);
6)光刻第二层掩膜反版,通过杂质掺杂形成器件的源区导电层p+层(杂质硼);
7)氧化,并通过硬掩膜刻欧姆孔,淀积金属铝;
8)光刻第三层掩膜,制作金属铝引线;
9)制作钝化膜,光刻第三层掩膜反版,刻蚀钝化膜,同时刻去槽栅内填充的多晶硅,露出传感器的检测区域;
10)器件封装。
3.根据权利要求1所述的检测系统,其特征在于:由计算机、检测硬件电路及相应的控制程序构成。
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