[发明专利]耐高温耐辐射光纤及其加工工艺

权利要求书

1.一种耐高温耐辐射光纤，包括纤芯(1)、包层(2)和涂覆层(3)，其特征在于，所述涂覆层(3)包括溅射镀膜层(31)，所述溅射镀膜层(31)外部电镀有电镀膜层(32)。

2.根据权利要求1所述的耐高温耐辐射光纤，其特征在于，所述溅射镀膜层(31)包括溅射镀铝膜、溅射镀铜膜、溅射镀镍膜、溅射镀铬膜或溅射镀金膜之一。

3.根据权利要求2所述的耐高温耐辐射光纤，其特征在于，所述电镀膜层(32)包括镀铝层、镀铜层、镀镍层、镀铬层、镀金层、镀钴层或镀铅层之一。

4.根据权利要求1所述的耐高温耐辐射光纤，其特征在于，所述溅射镀膜层(31)设有至少一层。

5.一种权利要求1至4任意一项所述的耐高温耐辐射光纤的加工工艺，其特征在于，包括以下步骤：

制备无涂覆层的裸纤；

清洗上一步得到的裸纤；

对上一步得到的裸纤进行活化处理；

将上一步得到的裸纤送入带圆周旋转溅射靶的溅射炉进行溅射镀膜处理；

将上一步得到的光纤进行电镀处理。

6.根据权利要求5所述的耐高温耐辐射光纤的加工工艺，其特征在于，在所述清洗上一步得到的裸纤之后，所述对上一步得到的裸纤进行活化处理之前，还包括以下步骤：

将清洗后得到的裸纤放入粗化液中浸泡10分钟。

7.根据权利要求6所述的耐高温耐辐射光纤的加工工艺，其特征在于，所述清洗上一步得到的裸纤，具体包括以下步骤：

用酒精棉球均匀擦拭所述无涂覆层的裸纤的表面；

将擦拭过的裸纤浸入浓度为100g/L的NaOH溶液中浸泡10分钟；

从所述NaOH溶液中取出裸纤并用去离子水冲洗。

8.根据权利要求7所述的耐高温耐辐射光纤的加工工艺，其特征在于，所述对上一步得到的裸纤进行活化处理，具体包括以下步骤：

将去离子水冲洗后得到的裸纤放入设定温度为120℃的保温箱中保温10分钟。

9.根据权利要求8所述的耐高温耐辐射光纤的加工工艺，其特征在于，所述粗化液为HF、H2SiF6和H2O的混合物，其体积比为HF∶H2SiF6∶H2O＝1∶1∶2。