[发明专利]高透明度氧化铈-氧化硅紫外线吸收薄膜的制备方法

权利要求书

1.高透明度氧化铈-氧化硅紫外线吸收薄膜的制备方法，其特征在于，步骤如下：

（1）在室温下将铈的无机盐加入醇中充分搅拌，至形成铈离子为0.3～1.2M的透明溶液；

（2）滴入硝酸将溶液的pH值调节到1～3之间；

（3）加入有机硅，搅拌均匀；

（4）加入和金属离子摩尔比率为3～12的胶凝剂，混合均匀后在室温下搅拌2～12小时形成溶胶；

（5）控制匀胶机的转速在500～2000rpm之间，将溶胶涂覆到玻璃衬底上，在25～50℃之间干燥形成氧化铈-氧化硅薄膜。

2.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于：所使用的胶凝剂为二氯甲烷、三氯甲烷、甲基丙烯酸羟乙酯、六亚甲基四胺、三氯乙酰胺、甲酸甲酯、甲酸乙酯、环氧甲烷、环氧乙烷或环氧丙烷。

3.如权利要求2所述的制备方法，其特征在于：胶凝剂的加入量为金属盐摩尔浓度的4～8倍（优选5倍），混合均匀后在室温下搅拌5～10小时（优选8小时）形成溶胶。

4.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于：所使用的醇为甲醇或乙醇。

5.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于：所使用的铈的无机盐为氯化铈或硝酸铈。

6.如权利要求5所述的制备方法，其特征在于：在室温下将铈的无机盐加入醇中充分搅拌，至形成铈离子为0.5～1.0M（优选0.8M）的透明溶液。

7.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于：所使用的有机硅为正硅酸甲酯、正硅酸乙酯或γ-(甲基丙烯酰氧)丙基三甲氧硅烷。

8.如权利要求7所述的制备方法，其特征在于：所述有机硅用量和铈离子等摩尔。

9.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于：步骤（2）所用硝酸的质量浓度为65%。

10.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于：步骤（5）：控制匀胶机的转速在800～1200rpm（优选900～1000rpm）之间，将溶胶涂覆到玻璃衬底上，在30～45℃（优选35～40℃）之间干燥形成氧化铈-氧化硅薄膜。