[发明专利]一种化学溶液沉积快速制备GdBCO薄膜的方法有效
申请号: | 201110048012.8 | 申请日: | 2011-02-28 |
公开(公告)号: | CN102134712A | 公开(公告)日: | 2011-07-27 |
发明(设计)人: | 金利华;李成山;卢亚锋;严武卫;于泽铭 | 申请(专利权)人: | 西北有色金属研究院 |
主分类号: | C23C20/08 | 分类号: | C23C20/08;C04B35/45;C04B35/64;C04B35/624;H01L39/24 |
代理公司: | 西安创知专利事务所 61213 | 代理人: | 谭文琰 |
地址: | 710016*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 化学 溶液 沉积 快速 制备 gdbco 薄膜 方法 | ||
1.一种化学溶液沉积快速制备GdBCO薄膜的方法,其特征在于,该方法包括以下步骤:
(1)制备GdBCO前驱液:将乙酸钆、三氟乙酸钡和苯甲酸铜按Gd∶Ba∶Cu=1∶2∶3的原子比溶解于甲醇中,然后进行减压蒸馏去除杂质水,再加入螯合剂,最后用甲醇定溶得到GdBCO前驱液;所述螯合剂为乙醇胺或三乙醇胺,螯合剂的加入量为铜离子摩尔量的3~5倍,所述GdBCO前驱液中钆、钡和铜金属离子的总浓度为1mol/L~1.5mol/L;
(2)前驱液涂覆:采用旋涂法或浸涂法将步骤(1)中所述GdBCO前驱液均匀涂覆于铝酸镧单晶衬底,然后在温度为120℃~150℃条件下干燥,得到表面附着1μm~2μm固化膜的铝酸镧单晶衬底;或者采用旋涂法或浸涂法将步骤(1)中所述GdBCO前驱液均匀涂覆于NiW/Y2O3/YSZ/CeO2缓冲层上,然后在温度为120℃~150℃条件下干燥,得到表面附着1μm~2μm固化膜的NiW/Y2O3/YSZ/CeO2缓冲层;
(3)高温热处理:将步骤(2)中所述表面附着固化膜的铝酸镧单晶衬底或表面附着固化膜的NiW/Y2O3/YSZ/CeO2缓冲层置于管式炉中进行高温热处理,随炉冷却得到GdBCO薄膜。
2.根据权利要求1所述的一种化学溶液沉积快速制备GdBCO薄膜的方法,其特征在于,步骤(3)中所述高温热处理的过程为:以10℃/min~25℃/min的速率升温,气氛为流动的氩氧混合气氛,气体流速控制为10mm/s~30mm/s,在温度高于400℃时引入水汽,水汽分压控制为3.1%,升温至770℃~830℃时恒温1h~3h;然后在干燥的氩氧混合气氛中降温至525℃时,将氩氧混合气氛更换为干燥的氧气氛,当温度降至450℃时恒温3h进行渗氧处理;所述氩氧混合气氛中氧气含量为180ppm,余量为氩气。
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